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化合物半導體沉積系統
化合物半導體沉積系統AIX G5 WW C“下一代碳化硅電力電子器件的最佳性能，以應對全球大趨勢"高吞吐量批量外延與單晶圓控制 - 兩全其美。
型號： AIX G5 WW... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/8/13 11:12:18 對比

半導體沉積
等離子增強化學氣相沉積
PlasmaPro 100 Nano用于生長1D / 2D納米材料和異質結構的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過在線催化劑活...
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 11:13:24 對比

薄膜生長
原子層沉積（ALD）
FlexAL系統可提供遠程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結構和器件的工程設計提供了一系列新的靈活性和可行性。ALD產品家族涵蓋的系列設備可以滿足學術界、...
型號： FlexAL 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 11:04:26 對比

原子層沉積（ALD）
原子層沉積研究設備
TFS 500 是薄膜鍍膜應用的理想選擇。作為第一個 Beneq 反應器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩健批處理的多功能工具。TFS 500 是多...
型號： TFS 500 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 11:03:34 對比

原子層沉積
超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜
超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜Beneq C2R 是我們集群兼容設備系列的空間 ALD 成員。Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積（PEALD）工...
型號：貝內克 C2R 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 11:03:18 對比

空間原子層沉積鍍膜
原子層沉積
市場和應用用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。各種類型鋰離子和固態...
型號：捷尼賽思所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 11:03:02 對比

原子層沉積
PEALD 系統
SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對敏感基材和層進行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應性氣體種類，而沒有紫外線輻射或離子轟擊。...
型號： SI PEALD 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:25:24 對比

PEALD
PEARD系統
SENTECH SILAYO是一種用于光學鍍膜的等離子體增強原子層沉積（PEALD）系統，擴展了SENTECH PECVD和ALD產品組合。SENTECH SI...
型號： SENTECH S... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:25:06 對比

原子層沉積ALD
ICPCVD
PlasmaPro 80是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設計可實現...
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:13:43 對比

ICPCVD 刻蝕沉積
ICPECVD 系統
電感耦合等離子體（ICP）沉積系統，SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積，以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
型號： SI 500 D 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:09:28 對比

電感耦合等離子體（ICP）沉積系統

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