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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 原子層沉積ALD

    用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。
    型號： Genesis A... 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:24:21 對比

  • 金屬有機化學氣相沉積MOCVD

    Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業界最高性能的金屬有機物化學氣相沉積系統MOCVD，可實現出色的均勻性和可重復性，以及低缺陷率。Vee...
    型號： TurboDisc... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 13:48:50 對比

  • 多腔等離子體工藝系統

    多腔等離子體工藝系統-概述：1.方案是適用于最大 8 吋晶圓的多腔等離子體沉積/刻蝕工藝系統2.系統可用于研發和小批量生產3.系統兼容 8 吋、6 吋、4 吋、...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:07:29 對比

  • 碳化硅外延系統

    MARS iCE115碳化硅外延系統主要用于4、6英寸SiC外延工藝。采用水平熱壁式技術路線，應用優良的控溫、控壓算法和專業的進氣、混流結構，使得整個外延工藝過...
    型號： MARS iCE1... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:59:21 對比

  • 化合物半導體沉積系統

    化合物半導體沉積系統AIX 2800G4-TM （IC2）“基于 GaAs/InP 的光電子學和射頻應用的 HVM 最佳反應器"
    型號： AIX 2800G... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:29:00 對比

  • 熱原子層沉積系統

    Scaler HK430 熱原子層沉積系統，填孔能力以及良好的薄膜均勻性,腔室結構設計，具備良好的防酸腐蝕能力。
    型號： Scaler HK... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:08:14 對比

  • 金屬有機源氣相沉積系統

    金屬有機源氣相沉積系統MOCVD主要由真空室反應系統、氣體（載氣與氣相有機源）輸運控制系統、有機源蒸發輸運控制系統、電源控制系統、尾氣處理及安全保護報警系統組成...
    型號： MOCVD 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:57:26 對比

  • ICP沉積系統

    SENTECH SIPAR ICP沉積系統是為使用靈活的系統架構的各種沉積模式和工藝開發和設計的。該工具包括 ICP 等離子體源 PTSA、一個動態溫控基板電極...
    型號： SENTECH S... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:51:43 對比

  • 開蓋等離子體沉積系統PECVD

    SENTECH Depolab 200 是基本的等離子體增強化學氣相沉積 （PECVD） 系統，適用于沉積用于蝕刻掩模、膜和電隔離膜以及許多其他材料的介電膜。
    型號： SENTECH D... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:46:16 對比

  • 化學氣相沉積等離子體CVD系統

    PD-220N是用于沉積各種硅薄膜（SiO2、Si3N4等）的等離子體CVD系統。 PD-220N在提供薄膜沉積所需的全部功能的同時，占地面積比本公司的傳統系統...
    型號： PD-220N 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:41:10 對比

  • 等離子體增強CVD系統

    PD-330STC是一種低溫(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)的等離子體增強CVD系統，可用于大規模生產。Samco的液態源CVD...
    型號： PD-330STC 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:31:17 對比

  • 8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備

    詳細介紹ICP是一種加工微納結構的8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優...
    型號： Pishow... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:09:34 對比

  • 電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設備

    詳細介紹CCP腔室適用于制造微納結構的等離子刻蝕技術。在反應離子刻蝕過程中，等離子體中會包含大量的活性粒子，與表面原子產生化學反應，生成可揮發產物后，隨真空抽氣...
    型號： Haasrode&... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:45:18 對比

  • 等離子增強化學氣相沉積PECVD

    提供大面積刻蝕與沉積的量產型解決方案，LED工業要求高產量，高器件質量和低購置成本。 PlasmaPro 1000更好地解決了這些需求。
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:39:11 對比

  • 8英寸電感耦合等離子體化學氣相沉積設備

    Shale® C系列電感耦合等離子體化學氣相沉積設備（ICP-CVD），通過電感耦合（ICP）產生高密度等離子體，并通過電容耦合（CCP）產生偏壓，可...
    型號： Shale... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:35:04 對比

  • 8英寸等離子體增強化學氣相沉積設備

    詳細介紹Shale® A系列等離子體增強化學氣相沉積設備（PECVD），通過平行電容板電場放電產生等離子體，可以在400℃及以下沉積比較致密、均勻性較...
    型號： Shale... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:30:52 對比

  • 等離子化學氣相沉積系統

    EPEE系列 等離子化學氣相沉積系統單片和多片式架構，滿足量產和研發客戶需求高效遠程等離子體清洗系統，優異的顆?？刂?滿足量產和研發客戶需求.
    型號： EPEE系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/14 14:00:47 對比

  • 金屬化學氣相沉積MOCVD

    用于 5G、光子學和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統全自動單晶圓簇系統可在 300 毫米基板上生產 5G 射頻、光子學和高級 ...
    型號： Propel 30... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/13 16:07:47 對比

  • 高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統

    產品概述：系統主要由3個真空沉積室（分別沉積P、I、N結）、1個進樣室、1個中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺、工作氣路、傳送機械手、抽氣系統、安裝機臺、射頻電...
    型號： PECVD 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/13 14:40:44 對比

  • 高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積

    高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統主要由真空反應室、上蓋組件、噴淋頭裝置、熱絲架、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。本...
    型號： PECVD 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/8/13 13:58:48 對比
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