顯微反射膜厚儀 FT400
- 公司名稱 江蘇集萃中科先進光電技術研究所有限公司
- 品牌 集萃中科光電
- 型號
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2025/5/28 9:57:38
- 訪問次數 20
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產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
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應用領域 | 綜合 |
顯微反射膜厚儀 FT400描述:
利用光學干涉,采用微米級聚焦光斑,通過分析薄膜表面反射光和薄膜與基底界面反射光相干涉形成的反射光譜,快速準確測量薄膜厚度、光學常數等信息,廣泛應用于半導體鍍層、液晶顯示器、光學鍍層和生物醫學等領域。
顯微反射膜厚儀 FT400功能:
膜層厚度無損測量
避免傳統接觸式測量(如臺階儀)可能造成的劃傷或形變
支持微小區域測量
結合高倍率顯微物鏡和精密光路設計,將測量光斑聚焦至微米級。
支持測量區域光斑可視
避免盲測,提升測量重復性,尤其適用于不規則或異形樣品。
支持厚度均勻性測量
自動移動樣品臺,按網格或自定義路徑采集多點數據。
支持多種表面測量
如SiO?、光刻膠、PET薄膜,可通過多峰干涉解析各層厚度。
支持參數調整測量
用戶可保存不同材料的測量模板,提升批量檢測效率。
產品特點:
1.高精度、高穩定性無損測量。
2.支持小尺寸光斑定制。
3.可用于薄膜厚度均勻性測量,生成多點報表。
4.可測量高曲率樣品,在極小測量視場范圍場景同樣適用。
5.可測量表面粗糙樣品、帶圖形樣品,精準定位待測區域。
6.光斑可視,搭配位移臺,使定位測量使用更便捷。
三視圖:
正視圖
側視圖
后視圖
正視圖
側視圖
后視圖
技術參數:
波長范圍 | 400-850nm |
測量范圍(光學厚度) | 50nm-80μm |
測量重復性(RMS) | 0.4nm |
測量精度(與橢偏儀對比) | 2nm或0.4%(以較大值為準) |
入射角度 | 90° |
光斑尺寸 | 40μm |
測量時間 | 4ms-100ms |
基片測量范圍 | 100mm,360° |
通信接口 | USB3.0 |
檢測案例:
PVA膜檢測
硅上鍍二氧化硅膜