科研版-Academic 無掩模光刻機產品亮點：

高靈活性、高精度、無掩模的優勢，適用于科學研究

6 英寸加工幅面

最小特征尺寸可達0 . 4  μm

步進式光刻/掃描式光刻

科研版-Academic 無掩模光刻機產品應用：

托托科技無掩模光刻機應用領域概覽

一、二維材料

托托科技自主研發的“指引光”與“直接繪圖”功能，能夠在二維材料上直接、靈活、高效地繪制電極圖案，為相關研究與應用提供強大支持。

二、微流控

無掩模光刻機在微流控芯片制造中展現高精度與高靈活性，尤其適用于制作高深寬比（10:1）結構，廣泛應用于單細胞分析、傳感器等前沿領域。

三、MEMS

無掩模光刻技術是MEMS領域的得力助手，能夠高精度制造微米級圖案，并通過多層套刻實現復雜結構的精細加工。

四、微透鏡

利用灰度光刻技術，可精確控制表面形貌，生成如光柵、菲涅爾透鏡、微透鏡等復雜的衍射結構，為微光學領域帶來創新可能。

五、光學衍射器件

灰度光刻在光學調制器件中發揮重要作用，通過精確控制光刻強度，制造高度精細的光學微結構，優化光波的調制與傳輸特性。

六、浮雕結構

在防偽浮雕結構領域，灰度光刻技術通過精細調控光照強度，實現高精度的三維微結構制造，顯著增強防偽標識的復雜性和難以復制性。

七、超表面

光刻工藝在超表面方向的應用，通過精確加工微納米級結構，實現對光波的精細操控和特定波長、極化等光學性質的調制，開辟新的光學應用領域。

八、量子光學

在量子光學光波導方向，光刻工藝通過精密刻蝕微納尺度的光波導結構，實現對量子態的高效傳輸和操控，推動量子信息處理與傳輸技術的進步。

九、掩模版制造

高速（可達1200 mm2/min）的無掩模光刻機適用于小批量、定制化掩模版制備，有效減少對外部依賴，縮短設計迭代周期，提升制造效率與靈活性。

以上各領域應用，均彰顯了托托科技無掩模光刻機的性能和廣泛適用性，為相關行業的發展提供了有力工具。