光刻機，亦稱為掩模對準曝光機，是半導體芯片制造過程中至關重要的設備，主要負責將精心設計的集成電路圖案精確地轉移到硅晶圓上，從而制造出微小、精確且高效的集成電路。

光刻機的分類主要依據其曝光方式，可分為接觸式、接近式和直寫式三大類。直寫式光刻機進一步可以根據是否使用掩模版分為有掩模和無掩模兩種類型。無掩模光刻機，顧名思義，無需傳統掩模版即可進行曝光，它直接在晶圓上繪制圖案，這不僅提高了生產速度，降低了成本，而且除了傳統的二維光刻，還能實現2.5維度的灰度光刻。無掩模光刻機的靈活性高、無需掩模版的特點，使其在科學研究、定制化生產、快速原型制造、電子器件、生物醫藥、光學元件、微機械等多個領域得到了廣泛應用。

托托科技推出的科研版無掩模光刻機-Academic（ACA系列），托托科技科研版6英寸光刻面積無掩模光刻機ACA Master，以其高靈活性、高精度和無掩模的優勢，成為科學研究領域的理想選擇。

ACA系列無掩模紫外光刻機采用空間光調制技術，實現了數字化的掩模光刻，其靈活性是科研工作的一大亮點。設備配備了長壽命、高功率的紫外光源，確保了設備的穩定性和操作的簡便性。此外，其原位光繪和交互式套刻指引功能，大大簡化了光刻和套刻過程，提高了操作的精準度。ACA系列光刻機為科研人員提供了強大的工具，助力科學研究和技術創新的進步。

托托科技科研版6英寸光刻面積無掩模光刻機ACA Master亮點：

- 特征尺寸可達0.4μm，確保了高精度的圖案繪制。

- 支持6英寸的光刻面積，滿足多種尺寸的晶圓加工需求。

- 具備掃描光刻與步進光刻的切換功能，適應不同的光刻工藝需求。

- 無需掩模版，實現了更靈活、更高效的光刻作業。