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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>鍍膜機> VTC-600G高真空磁控濺射儀

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VTC-600G高真空磁控濺射儀

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  沈陽科晶立足國內市場實際情況,以提供Z為實用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎上,產(chǎn)品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。性價比不僅吸引了眾多國內客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。

  沈陽科晶為了更好地服務客戶,專門設立了開放式專業(yè)實驗室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導。開設以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內材料分析設備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。

 

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
應用領域 綜合
產(chǎn)品簡介VTC-600G高真空磁控濺射儀

VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600G高真空磁控濺射儀可選配多個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質及OLED等。

主要特點VTC-600G高真空磁控濺射儀
  • 可選配多個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調換)。

  • 可制備多種薄膜,應用廣泛。

  • 體積小,操作簡便。

  • 整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據(jù)用戶實際需要調整。

  • 可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。

技術參數(shù)VTC-600G高真空磁控濺射儀
產(chǎn)品名稱VTC-600G高真空磁控濺射儀
產(chǎn)品型號VTC-600G
主要參數(shù)1、結構:臺式前開門結構,后置抽氣系統(tǒng)。 
2、極限真空:6.0X10-5Pa。 
3、漏率:1h≤0.5Pa。 
4、抽氣時間大氣至5.0X10-3約20分鐘。 
5、真空泵組:機械泵+分子泵。 
6、樣品臺:φ140、室溫-500℃、精度±1℃ (可根據(jù)實際需要提升溫度) 自轉5rpm-20rpm內可調。 可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能, 以實現(xiàn)更高質量的鍍膜。
7、加氣系統(tǒng):質量流量計2路。 (氬氣/氮氣各一路) 
8、靶頭與樣品臺中軸線夾角為34° 
9、靶頭數(shù)量:3個(互成120°)。
10、 靶槍冷卻方式:水冷 
11、靶材尺寸:φ2″,厚度0.1-5mm (因靶材材質不同厚度有所不同)
產(chǎn)品規(guī)格

12、產(chǎn)品規(guī)格:
·整機尺寸:700mm×852mm×1529mm;

可選配件VTC-600G高真空磁控濺射儀
序號名稱功能類別圖片鏈接
1樣品臺擋板(可選)VTC-600G高真空磁控濺射儀




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