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VTC-16-1HD 單靶磁控濺射儀

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  沈陽科晶立足國(guó)內(nèi)市場(chǎng)實(shí)際情況,以提供Z為實(shí)用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國(guó)外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價(jià)格定位卻僅僅是其幾分之一。性價(jià)比不僅吸引了眾多國(guó)內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國(guó)客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國(guó)家,并大量出口于美國(guó)。

  沈陽科晶為了更好地服務(wù)客戶,專門設(shè)立了開放式專業(yè)實(shí)驗(yàn)室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗(yàn)環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來,制作的樣品達(dá)上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國(guó)友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠(chéng)摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國(guó)材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程,是以實(shí)際行動(dòng)將自己打造成國(guó)內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國(guó)外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長(zhǎng)歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅(jiān)持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅(jiān)持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會(huì)成為市場(chǎng)上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽科晶的明天會(huì)更加燦爛輝煌。

 

我們擁有同類型中優(yōu)質(zhì)性價(jià)比的產(chǎn)品!                 

      您正在為材料與設(shè)備無從下手而焦急嗎?

歡迎來到沈陽科晶,我們是國(guó)內(nèi)實(shí)驗(yàn)室樣品制備設(shè)備領(lǐng)域的專家!

 

 

 

 

 

 

 

 

切割機(jī),金剛石線切割機(jī),研磨拋光機(jī),提拉涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),真空鍍膜機(jī),管式爐,箱式爐,電池實(shí)驗(yàn)研究設(shè)備,清洗機(jī)

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

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VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。單靶磁控濺射儀配備有一個(gè)靶槍,可選擇強(qiáng)磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導(dǎo)磁材料的濺射鍍膜,強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。IMG_257

1、一個(gè)靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、靶頭在樣品臺(tái)正下方,脆性靶材安裝更方便,樣品不易被污染。
3、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
4、體積小,操作簡(jiǎn)便。
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產(chǎn)品名稱

VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀

產(chǎn)品型號(hào)

VTC-16-1HD

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺(tái):尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風(fēng)裝置:需要

主要參數(shù)

1、電源電壓:220v  50Hz
2、功率:900W
3、腔體內(nèi)徑:φ164mm
4、極限真空度:9.0×10-4Pa
5、樣品臺(tái)加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(根據(jù)實(shí)際需要提升溫度)
6、靶槍數(shù)量:1個(gè)(在真空室下方)
7、靶槍冷卻方式:水冷
8、靶材尺寸:φ2〞,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
9、樣品臺(tái):φ86mm
10、樣品臺(tái):1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)。
11、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。
12、開關(guān)蓋方式:自動(dòng)升降上蓋。
13、工作氣體:Ar等惰性氣體。
進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)進(jìn)氣,1-100SCCM可調(diào)。

產(chǎn)品規(guī)格

14、產(chǎn)品規(guī)格:
·尺寸:
主機(jī)尺寸:750mm×450mm×1020mm
真空室規(guī)格:φ164×172mm
·重量:100kg

標(biāo)準(zhǔn)配件

1直流電源控制系統(tǒng)1套
2射頻電源控制系統(tǒng)1套
3分子泵(德國(guó)進(jìn)口或者國(guó)產(chǎn)更大抽速)1臺(tái)
4冷水機(jī)1臺(tái)
5冷卻水管(Ø6mm)2根

可選配件

1、金、銦、銀、白金等各種靶材,可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。
2、膜厚檢測(cè)系統(tǒng)。

 

 

 



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