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在半導體制造中，蒸發鍍膜儀可用于沉積金屬電極、絕緣層等薄膜，是制備集成電路的關鍵設備之一。例如，通過蒸發鋁等金屬，可以在硅片上形成導電的電極，實現電子元件之間的連接。在電子元器件的生產中，如電容器、電感器等，也常常利用蒸發鍍膜技術來制備薄膜介質或導電層，以提高器件的性能和可靠性。
用于制造光學鏡片的增透膜、反射膜等。通過蒸發特定的材料，如氟化鎂、銀等，可以在光學鏡片表面形成一層厚度均勻、光學性能優良的薄膜，減少光線的反射損失，提高鏡片的透光率或反射率。在激光技術中，可用于制備激光鏡片的防護膜、反射鏡等，滿足激光系統對光學元件的高要求。
蒸發鍍膜儀的組成：
1.真空腔體：這是蒸發鍍膜儀的主體部分，用于提供一個密閉的高真空環境。腔體的設計通常考慮到易于操作和維護，如采用前開門式結構，方便取放基片、更換蒸發源以及進行日常的清潔和保養。腔體的大小和形狀會根據不同的應用需求有所差異，可以容納較大尺寸的基底，滿足大規模生產或特殊實驗的要求。
2.真空系統：由真空泵、真空閥門、真空管道等組成，負責將腔體內的氣體抽出，以達到所需的真空度。常見的真空泵包括機械泵、分子泵等。機械泵主要用于粗抽，能夠快速將腔體內的大部分氣體抽出，而分子泵則用于進一步提高真空度，其工作原理是基于高速旋轉的轉子將氣體分子吸附并排出，從而獲得真空度。
3.蒸發源：是蒸發材料加熱蒸發的關鍵部件，根據加熱方式的不同，有各種不同的類型。如電阻加熱源中的鎢舟、鉬舟等，它們能夠承受高溫，且與蒸發材料有良好的熱接觸，確保材料均勻受熱蒸發。電子束蒸發源則相對復雜，它通過電子槍產生高能電子束，聚焦在蒸發材料上，使其迅速熔化并蒸發。
4.基底支架與樣品臺：用于固定基底，使其處于合適的位置以接收蒸發材料形成的薄膜。樣品臺通常可以進行旋轉、傾斜等運動，這樣可以保證薄膜在基底表面的均勻性。在有些蒸發鍍膜儀中，樣品臺還能夠實現多工位切換，提高鍍膜效率。
5.控制系統：負責對整個鍍膜過程進行準確的控制和調節。它可以設定蒸發溫度、蒸發時間、真空度等參數，并根據預設的程序自動運行。同時，控制系統還能實時監測設備的各項狀態，如真空度、溫度等，一旦出現異常情況，能夠及時發出警報并采取相應的保護措施。
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