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Osaka Vacuum大阪真空 渦輪分子泵 TG5003
Osaka Vacuum大阪真空 渦輪分子泵 TG5003
渦輪分子泵（Turbomolecular Pump）是一種通過高速旋轉葉片與氣體分子動量交換來實現抽氣作用的高真空泵。1958年由德國科學家貝克（W. Becker）研制成功，現已成為高真空和超高真空系統中最核心的抽氣設備之一。渦輪分子泵通過轉子葉片以超音速（通常300-600m/s）運動，直接撞擊氣體分子并賦予其定向速度，從而在進氣口端產生高真空環境。
| 進氣法蘭 | VG450型 | |
| 抽速 | N2 （升/秒） | 5000 |
| N2（帶保護網） （升/秒） | 4700 | |
| H2 （升/秒） | 4000 | |
| 最大壓縮比 | N2 | 1×108 |
| H2 | 5×103 | |
| 極限壓力 | VG （Pa） | <1×10-6 |
| VG （托） | <7.5×10-9 | |
| 最大氣體流速※1 | N2 （SCCM） | 1200 |
| 啟動時間 | （分鐘） | 25-35 |
| 停機時間 | （分鐘） | 30-40 |
| 允許的輔助壓力 | （Pa / Torr） | 200/1.5 |
| 推薦的輔助泵 | （升/分鐘） | 1500 |
| 潤滑油量 | （毫升） | 1000 |
| 安裝姿勢 | 垂直 （±10°） | |
| 質量 | （公斤） | 250 |
| 控制器類型 | TC5503 系列 | |
用
?半導體制造
?電子槍排氣、離子源排氣
?FPD 制造
?表面處理、表面改性
?各種電子元件的制造
?管材、光學元件的制造
?加速器、放射線設施、聚變研究
?熱處理
?研發
* 對于清潔工藝，請選擇 TG-F 系列、TG-M 系列或 TGkine 系列。
渦輪分子泵的典型應用領域
（一）半導體制造
晶圓加工設備（刻蝕、離子注入等）
光刻機真空系統
半導體鍍膜設備
（二）科學研究
高能物理實驗裝置
表面分析儀器（XPS、AES等）
空間環境模擬設備
（三）分析儀器
質譜儀
電子顯微鏡
同步輻射裝置
（四）特種工藝
分子束外延（MBE）
納米材料制備
精密光學鍍膜
（五）新興領域
量子計算研究
核聚變實驗裝置
先進材料研發
高斯摩(成都)國際貿易有限公司 - 主營產品： 主要經營光學設備、電子計測、科學儀器、機械加工設備、環境試驗 ...
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