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產品介紹
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設備 AD-3000
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設備 AD-3000
顯影和蝕刻設備是半導體制造和微電子加工中的核心工藝裝備，主要用于圖形轉移和微納結構加工。顯影設備通過化學溶液去除曝光后的光刻膠可溶部分，形成所需圖案；蝕刻設備則通過物理或化學方法去除未被光刻膠保護的基底材料，實現圖形轉移。
主要設備類型：
顯影設備：
噴淋式顯影機
浸漬式顯影機
超聲波輔助顯影機
蝕刻設備：
濕法蝕刻設備（化學溶液）
干法蝕刻設備（等離子體）
反應離子蝕刻（RIE）
深硅蝕刻（DRIE）
設備優點
工藝優勢：
高分辨率圖形轉移
優異的選擇比控制
低損傷加工
生產效益：
高吞吐量（最高300片/小時）
工藝穩定性好（CPK>1.67）
設備利用率高（>90%）
成本優勢：
材料消耗低
維護成本可控
能耗優化
技術優勢：
支持優良節點工藝
兼容多種技術路線
便于工藝升級
質量優勢：
缺陷率低（<0.1%）
均勻性好（<3%）
重復性高
顯影和蝕刻設備作為微納制造的關鍵裝備，其技術水平直接決定了集成電路和微器件的性能與可靠性。隨著半導體技術節點的不斷推進和新興應用的涌現，新一代設備正向著更高精度、更高效率、更智能環保的方向發展。未來，這些設備將繼續在推動信息技術進步、賦能新興產業發展方面發揮不可替代的作用。
室 | 不銹鋼 | 轉速 | 0~3,000轉/分 |
基板尺寸 | φ1“ ~ φ12" （220×220mm） | 聯 鎖 | 真空吸附確認傳感器 加工腔蓋聯鎖 噴嘴移動超限 限制器 |
化學泵送 | 加壓罐壓力泵 | ||
化學品排放 | 噴霧排放 （擺動噴嘴型） | 權力 | AC200V 三相 15A |
| 尺寸 （mm） 當門打開時 | 720W×500H×520D 910H | ||
步數 | 48 步 跳拷貝功能 | ||
| 程序模式 | 10 模式 | 重量 | 60 公斤 |
| 工藝（標準） | 開發商：1 個系統（2 個噴嘴） 沖洗：1 個系統（2 個噴嘴） 反 沖洗：1 個系統 | 關鍵選項 | 化學溫度管理系統 （加壓法） 各種基板支架 安裝工作臺 |
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