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鈣鈦礦鍍膜機

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更新時間:2024-03-07 23:07:24瀏覽次數:571

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產品簡介

產品簡介:鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成

詳細介紹


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產品簡介: 鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加 熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成。 適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄 膜等, 可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作, 也可用于大批量生產前的試驗工作, 廣泛應用 于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、 OLED 等研究領域。鈣鈦礦鍍膜機工作過程中樣品位于真空室上 方,蒸發源位于真空室下方,向上蒸發鍍膜,且蒸發源帶有擋板裝置,防止蒸發源被污染。


產品名稱

鈣鈦礦鍍膜機

主要特點

1、樣品位于真空室上方,蒸發源位于真空室下方,向上蒸發鍍膜,且蒸發源帶有擋板裝置。


2、設有烘烤加熱功能,可在鍍膜過程中加熱樣品, 烘烤加熱溫度可達 180℃。


3、設有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。

技術參數

1、鍍膜室:不銹鋼材料,采用方形前后開門結構,內帶有防污板, 腔室尺寸約為 600mm×


450mm×450mm

2、真空排氣系統:采用分子泵+機械泵系統


3、真空度:鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa


4、系統漏率:≤ 1×10-7Pa


5、蒸發源:安裝在真空室的下底上; 有機蒸發源 4 個、 容積 5ml 2 臺蒸發電源,可測溫、





控溫, 加熱溫度 400℃, 功率 0.5KW;無機蒸發源 4 套、 容積 5ml 2 臺蒸發電

源, 加熱電流 300A ,功率 3.2KW;蒸發源擋板采用自動磁力控制方式控制其開



6、樣品架:安裝在真空室的上蓋上, 可放置 ?120mm 的樣品、載玻片, 旋轉速度 0-30rpm


7、加熱溫度: RT-180℃,測溫、控溫


8、膜厚控制儀:石英晶振膜厚控制儀, 膜厚測量范圍 0-999999?


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