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首頁>>沈陽科晶自動化設備有限公司>>產品展示>>CVD及PECVD系統>>CBD/PECVD系統

  • 平行板電容式PECVD 參考價:面議

    平行板電容式PECVD是一種用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。等離子體化學氣相沉積技術的基本原理是在高頻或直流電...
    型號: 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    PECVD化學氣相沉積
    2024/5/8 17:51:531294
  • 球形脈沖激光沉積系統(PLD) 參考價:面議

    該系統為球形脈沖激光沉積系統(PLD)工藝研發設備。脈沖激光沉積 (Pulsed laser deposition, PLD),就是將激光聚焦于靶材上一個較小的...
    型號: 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    PLD
    2021/12/3 15:29:562092
  • 高真空三溫區CVD系統OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV 參考價:面議

    高真空三溫區CVD系統OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV是由九通道質量流量控制器和高真空機組組成的CVD系統,其爐管直徑為4″,Z高溫度可達1200℃,極限真...
    型號: 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    CVD系統三溫區CVD系統高真空CVD系統九通道CVD系統CVD
    2019/3/6 8:42:021457
  • 快速升溫CVD系統RTP-1000-F3LV 參考價:面議

    快速升溫CVD系統RTP-1000-F3LV是專為半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達3″ )的退火而設計,配有3路流量計和機械泵。本機采用 9KW的紅外...
    型號: RTP-1000-... 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    CVD系統快速升溫CVD系統CVDRTP
    2016/4/12 10:36:552351
  • 開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV 參考價:面議

    開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統組成,可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合氣體,真空...
    型號: OTF-1200X... 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    CVD系統低真空CVD系統單溫區CVD系統開啟式CVD系統CVD
    2016/4/12 10:31:042489
  • 高真空CVD系統OTF-1200X-80-C2HV 參考價:面議

    高真空CVD系統OTF-1200X-80-C2HV是由單溫區管式爐、兩路質子混氣系統和高真空機組組成,Z高工作溫度可達1200℃,混氣系統可以對兩種氣體進行精確...
    型號: OTF-1200X... 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    CVD系統高真空CVD系統CVDOTF-1200X
    2016/4/12 10:28:542609
  • 1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統 OTF-1200X-4-C4LV 參考價:面議

    1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統OTF-1200X-4-C4LV是專門為在金屬箔表面生長薄膜而設計的,特別是應用在新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究...
    型號: OTF-1200X... 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    CVD系統四通道混氣CVD系統滑動式CVD系統雙管CVD系統1200℃CVD系統
    2016/4/12 10:22:452462
  • 高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV 參考價:面議

    高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統和高真空機組組成,可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達3...
    型號: OTF-1200X... 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    CVD系統快速CVD系統高真空CVD系統CVDOTF-1200X
    2016/4/12 10:16:532491
  • 帶滑動法蘭三溫區CVD系統OTF-1200X-5-III-F3LV 參考價:面議

    帶滑動法蘭三溫區CVD系統OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加熱至1200℃,并通過調整三個溫區而建立不同梯度的熱場,可進行退火、擴散、在不同氣氛...
    型號: OTF-1200X... 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    CVD系統三溫區CVD系統帶滑動法蘭CVD系統CVD
    2016/4/12 10:05:371375
  • 4路質子混氣管式PECVD系統 參考價:面議

    4路質子混氣管式PECVD系統是為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,環境溫度在100-300℃,但反應氣體在輝光放電等離子體中能...
    型號: 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    PECVD系統管式PECVD系統4路質子混氣PECVD系統PECVD
    2016/4/12 10:03:051686
  • 1700℃單溫區三通道混氣CVD系統GSL-1700X-F3LV 參考價:面議

    1700℃單溫區三通道混氣CVD系統GSL-1700X-F3LV是由單溫區管式爐、三路浮子混氣系統和雙旋片式真空泵組成,Z高工作溫度可達1700℃,混氣系統可以...
    型號: GSL-1700X... 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    CVD系統三通道混氣CVD系統單溫區CVD系統1700℃CVD系統CVD
    2016/4/12 10:00:351560
  • 1700℃兩通道混氣高真空CVD系統GSL-1700X-4-C2HV 參考價:面議

    1700℃兩通道混氣高真空CVD系統GSL-1700X-4-C2HV是由單溫區管式爐、兩路質子混氣系統和高真空機組組成,Z高工作溫度可達1600℃,混氣系統可以...
    型號: GSL-1700X... 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    CVD系統高真空CVD系統兩通道混氣CVD系統1700℃CVD系統CVD
    2016/4/12 9:59:121518
  • 微型PECVD系統 參考價:面議

    微型PECVD系統采用Φ 3“ × 16“ 的石英腔體,內部設有加熱圈對樣品進行加熱,Z高溫度可以達到400℃,且采用程序化控溫,系統還配有2...
    型號: 廠商性質:生產商所在地:沈陽市 對比
    微型PECVD系統微型PECVDPECVD系統
    2016/4/7 13:27:212924

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