工業(yè)氣體純化設(shè)備原理；

O2 + H2 ----- HO2

     利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應(yīng)生成水的原理，在氮?dú)庵屑尤霘錃猓旌蠚庠谘b有高效的催化劑的除氧器中反應(yīng)，去除氧雜質(zhì)，再經(jīng)過冷卻、吸附兩級干燥除水，得到高純氮?dú)狻?/p>

     常壓氫氣純化設(shè)備以電解氫氣或氨氣分解氫氣為原料，經(jīng)催化除氧冷卻、吸附二級干燥，再經(jīng)過濾器，除去氫氣中雜質(zhì)氧、水汽和塵埃而獲得高純氫氣。

產(chǎn)品氫氣指標(biāo)：1、純度≥99.9995

2、露點(diǎn)≤-60℃

3、處理氣量：5-2000m³/h

4、整套設(shè)備所用材質(zhì)均為304不銹鋼材質(zhì)，要求防爆等級。

工業(yè)氣體純化設(shè)備特點(diǎn)：

● 純氣含過量氫，適合需還原性氣氛的應(yīng)用，氫含量可調(diào)。

● 原理簡單，結(jié)構(gòu)合理，能耗低

● 氣體指標(biāo)溫度，雜質(zhì)含量低

● 可選配自動(dòng)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)無人值守

● 應(yīng)用范圍廣，對原料氣無特殊要求

技術(shù)指標(biāo)：

普通氮?dú)猓?/p>

● 壓力—— 0.6~0.7Mpa
● 常壓露點(diǎn)—— 無要求
● 氧含量——≤3%
● 處理氣量——10～5000Nm3/hr

高純氮?dú)猓?br />● 壓力—— 0.5~0.6Mpa(可調(diào))
● 常壓露點(diǎn)——≤－70℃
● 氧含量——≤3ppm
● 氫含量—— 500~2000ppm
● 氮?dú)饬?mdash;—10～5000Nm3/hr