Pluto30是專為研發而設計的全功能等離子體系統，13.56MHz射頻發生器和自動匹配網絡電源在整個過程區域產生均勻的等離子體。Pluto30的真空腔可支持多達7個可調節樣品架，以容納各種形狀尺寸的樣品。Pluto30具有多種電極設置，可配置成RIE和PECVD模式，從而擴大了該系統的應用范圍，提供給用戶良好的靈活性。
復旦大學高分子系老師希望用該設備進行等離子體化學反應的實驗，即利用設備產生的等離子體在真空泵和氣體閥門關閉的情況下與真空腔內的物質進行化學反應，然后獲取化學反應后產生的新物質。此項實驗，對等離子體設備要求有精準的控制，對真空腔的保壓能力有很高的要求。客戶經過一番調研后，最終選擇了我司Pluto系列的Pluto30等離子表面處理系統。
應用領域：
表面活化
提高表面能量以提高材料粘合性：預壓模粘合；預焊線粘合
增強表面膠體流動性：預成型；預倒裝芯片下溢
表面粗糙度和蝕刻
降低表面應力，改善表面粘結性
灰化和表面清潔
Plasma等離子蝕刻（配備RIE配置)
電介質/III-IV材料
納米涂層（配備液體前體輸送裝置）
耐水納米涂層：印刷電路板表面處理
防腐納米涂層：醫療器械，醫療植入物
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