高壓光化學反應釜主要進行催化劑的評價與工藝研究,工藝流程為氮氣氣體通過針閥控制進氣控制釜壓力,使用溫度300℃內,使用壓力:8MPA。光化學高壓反應釜,適用于光化學高壓反應、二氧化碳還原、二氧化碳還原制甲醇、二氧化碳還原制甲烷、氮氧化物的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域。
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自控反應釜 電子級三甲基氯硅烷工藝裝置 連續反應裝置 連續式濕式氧化實驗平臺 多通道催化劑評價裝置 多功能光化學反應儀 自分解爆炸特性 重質油加氫反應裝置 重油加氫試驗系統 藥物催化劑評價 烷烴氧化催化劑評價裝置 水合物模擬開采裝置 水合物技術儲存氫氣反應裝置 雙環戊二烯DCPD熱解反應裝置 生物質氣化反應裝置 輕油加氫固定床 氣固光熱耦合光催化反應系統 平行釜式催化劑評價 平行超臨界流體反應 連續型非離子表面活性劑合成 連續醋酸氧化反應裝置 降冰片烯(NB)合成裝置 固態儲氫材料研發專用反應釜 高溫高壓氣體壓滲熔煉 丁烯連續反應裝置 底照光化學連續反應 聚碳酸酯PC反應系統裝置 HDPE高密度聚乙烯系統 CO2水合物反應裝置 CO2連續腐蝕裝置 聚酯裝置酯化反應釜 丙烯聚合反應器 加氫反應裝置 水熱反應裝置 溶劑熱反應裝置 實驗室反應裝置