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V1000/1000X/1000XS等離子清洗機
高頻輸出100~1,000W（V1000）/100~1,000W&1,500W（V1000X/1000XS）,電極尺寸 280×280mm（V1000） 300×300mm（V1000X） 400×375mm（V1000XS）
13.56MHz 高頻輸出的，搭載 RIE?DP 雙模式。
使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單"的

V1000/1000X/1000XS等離子清洗機

高頻輸出100~1,000W（V1000）/100~1,000W&1,500W（V1000X/1000XS）,電極尺寸 280×280mm（V1000） 300×300mm（V1000X） 400×375mm（V1000XS）
13.56MHz 高頻輸出的等離子清洗機，搭載 RIE·DP 雙模式。  
使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式高性能型號，調取數據簡單，以電子材料為中心，可對應多種用途。  
特征  
●可變更電極構造提高等離子效果。
●搭載高精度適配器，高性能RF 電源。
●可根據需求規格提供定制。  
用途  
●硅晶圓的灰化及蝕刻
●基板表面污垢處理
●IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
●半導體相關部品的電子材料的干式清洗
●自然氧化膜·有機物去除
●界面活性處理
●表面污染物去除  
規格  

型號	V1000	V1000X	V1000XS
等離子模式	DP/RIE
高頻電源	13.56MHz
輸出功率	Max1000W	Max1000 & 1500W
有效電極尺寸	W280×D280mm	W300×D300mm	W400×D375mm
電極	平行平板	2段電極（獨立）	平板（多目的）
反應氣體	聚合控制器2系統（填充氣路另行安裝）
真空泵（標配）	約1000L/min	約1500L/min	1000 & 1500L/min
安全裝置	門檢測開關、聯鎖機構、緊急停止開關、溫度過升防止器等