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硬涂層等膜厚測量設(shè)備-反射光譜膜厚儀介紹
2022-7-12 閱讀(1169)
硬涂層等膜厚測量設(shè)備-反射光譜膜厚儀介紹
[原理]
當(dāng)樣品被光照射時(shí)，它顯示出取決于膜厚度的*光譜。在薄膜表面反射的光與穿過薄膜并在基板表面反射的光相互干涉。當(dāng)光的相位匹配時(shí)，強(qiáng)度增加，當(dāng)光相移時(shí)，強(qiáng)度降低。反射計(jì)是一種通過分析該光譜來測量薄膜厚度的方法。
[特點(diǎn)]
? 與 SEM 和觸針式輪廓儀不同，可以非接觸式測量。
? 比橢偏儀更便宜、更容易使用。
[規(guī)格]
| 模型 | AFW-100W |
|---|---|
| 利用 | 一般膜厚 |
| 設(shè)備配置 | 本體、測量臺(tái)、2支光纖（1.5m）、PC |
| 測量波長范圍 | 380-1050nm |
| 膜厚測量范圍 | 100nm～1μm（曲線擬合法） |
| 1 μm-60 μm (FFT) | |
| 測量再現(xiàn)性 | 0.2%-1%（視膠片質(zhì)量而定） |
| 測量光斑直徑 | 約7mm |
| 光源 | 12V-50W 鹵素 |
| 測量理論 | 曲線擬合法/FFT法 |
| 外形尺寸（mm） | 測量臺(tái)：W150 x D150 x H115 |
| 機(jī)身：W230 x D230 x H135 | |
| 近似重量 | 5.5kg * 不包括電腦 |
| 效用 | AC100V 50 / 60Hz |
| 轟天猛將 | 鹵素?zé)?/span> |
