只有安裝在各種氣氛（例如超高真空或氣流）中的樣品才能通過紅外線jing確定位，以快速加熱樣品而不會發生接觸。
它可以輕松連接到真空系統或分析儀。
這是Thermo Riko的主要型號。 |
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 | 快速升溫 | ：gao升溫速度150℃/秒，gao1500℃約1min | | 清潔加熱 | ：不用擔心熱源或電磁感應產生的氣體 | | 局部供暖 | ：僅用紅外線照射樣品，請勿加熱周圍環境 | | 可自由安裝 | ：可以連接到各種系統 |
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| 高速升溫和Si和SiC等樣品的退火 | | 氧化氣氛中的氧化物晶體形成和薄膜形成 | | 在氫氣和氮氣中加熱基材 | | 在X射線或紫外線照射下樣品的溫度升高 | | 在分析儀中加熱樣品，例如加熱的解吸氣體分析儀，XPS，XRD，PLD等。 | | 在磁場中加熱，在非磁場中加熱 | | 在加壓氣氛中加熱 | | 加熱樣品 |
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| 紅外線引入加熱裝置根據應用具有以下規格。 | |
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| 超高真空型 | 它支持 10 -9 Pa的超高真空。 | | 高速升溫型 | 大溫度上升率可以實現150°C /秒的高速溫度上升。 | | 常溫加熱型 | 對于放置在大氣中的樣品，可以進行點加熱。 | | 加壓氣氛類型 | 可以加熱壓力在10個大氣壓以下的樣品。 | | 特殊功能 | 利用GV系列的功能，我們可以滿足各種要求，例如快速降溫，負載加熱和磁場加熱。
請隨時與我們聯系。 | | CE標志合格 | 我們還生產符合CE標志的規范。 |
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原理圖
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| 超高真空型GVH | | | | 型號名稱 | GVH198 | GVH298 | | 紅外燈額定值 | 1千瓦 | 2千瓦 | | gao溫度 | 1200℃ | 1400℃ | | 受熱面 | φ20毫米 | | 大加熱速度 | 1℃/秒 | | 大極限真空 | 5×10 -9帕 | | 冷水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
| | | | 高速升溫型GV / GVL | | | | 型號名稱 | GV154 | GV198 | GVL298 | GVL398 | | 紅外燈額定值 | 500瓦 | 1千瓦 | 2千瓦 | 3千瓦 | | gao溫度 | 1100℃ | 1300℃ | 1500℃ | 1600℃ | | 受熱面 | φ14毫米 | φ20毫米 | | 大加熱速度 | 100℃/秒 | 100-150℃/秒 | | 大極限真空 | 5×10 -7帕 | | 冷水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
| | | | 加壓氣氛類型GVP | | | | 型號名稱 | GVP198 | GVP298 | | 紅外燈額定值 | 1千瓦 | 2千瓦 | | gao溫度 | 1200℃ | 1300℃ | | 受熱面 | φ20毫米 | | 大加熱速度 | 100℃/秒 | | 大耐壓 | 1MPa以下 | | 冷水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
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