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MicroLine 300 關鍵尺寸的自動化光學測量系統 MicroLineTM 300是一款高性能測量晶圓、光罩、MEMS和其他微加工設備等關鍵尺寸的自動化測量系統。該系統配備了高質量光學顯微鏡和精密移動平臺，可對200mm的晶圓上0.5µm到400µm的特征尺寸進行全自動的精密視場測量。
產品簡介
詳細介紹
VIEW MicroLine 300 MicroLine 300 關鍵尺寸的自動化光學測量系統 MicroLineTM 300是一款高性能測量晶圓、光罩、MEMS和其他微加工設備等關鍵尺寸的自動化測量系統。該系統配備了高質量光學顯微鏡和精密移動平臺，可對200mm的晶圓上0.5µm到400µm的特征尺寸進行全自動的精密視場測量。
VIEW MicroLine 300 技術規格：
- 測量行程: 200 x 200 x 25mm (XYZ)
- 平臺運行: 交叉滾軸手動同軸定位和快速釋放
- 視場內的測量精度: 0.010µm (用100x物鏡)
- 特征尺寸: 視場內0.5µm - 400µm
- FOV測量重復性: <0.010µm on wafers (用100x物鏡)<0.005µm on photomasks (用100x物鏡)
- 照明: 石英鹵素燈, 反射光自動照明
- 低噪音CCD VGA格式攝像頭
- 圖像處理60幀每秒格：
- 測量行程: 200 x 200 x 25mm (XYZ)
- 平臺運行: 交叉滾軸手動同軸定位和快速釋放
- 視場內的測量精度: 0.010µm (用100x物鏡)
- 特征尺寸: 視場內0.5µm - 400µm
- FOV測量重復性: <0.010µm on wafers (用100x物鏡) <0.005µm on photomasks (用100x物鏡