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NIE-4000 IBE離子束刻蝕機：如銅和金等金屬不含揮發性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。樣品表...

RIE刻蝕機：獨立式RIE系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2“的視窗,...

NRE-4000型RIE-PE刻蝕機：提供PC控制的PE刻蝕RIE刻蝕一體機，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁...

NRE-3500型RIE-PE刻蝕機：PC控制的RIE刻蝕PE刻蝕一體機，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝...

NRE-3000型RIE-PE刻蝕機：PC控制的RIE刻蝕PE刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載...

NRE-4000（ICPA）全自動ICP刻蝕系統：自動上下載片，帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統，系統可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實...

NRE-4000（ICPM）ICP等離子刻蝕機：是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統，系統可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實現范圍廣泛的刻...

NDR-4000（A）全自動DRIE深反應離子刻蝕：全自動上下載片，帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統，帶8“ ICP源。系統配套500L/S抽速的渦輪...

NDR-4000（M）DRIE深反應離子刻蝕：是帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統，帶8“ ICP源。系統配套500L/S抽速的渦輪分子泵，可以使得工藝...

NRE-3000 反應離子刻蝕機：PC控制的RIE反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔...

NRE-3500（A）全自動反應離子刻蝕機：自動上下栽片，PC控制的RIE反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜，13“頂蓋式圓柱形鋁腔...

NRE-3500（M）反應離子刻蝕機：PC控制的反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體...

NRE-4000（M）反應離子刻蝕：獨立式RIE系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口...

NRE-4000（A）全自動反應離子刻蝕：獨立式RIE反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝...

NIE-4000（R）RIBE反應離子束刻蝕：如銅和金等金屬不含揮發性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的...

NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產生的離子束，可對固體材料濺射刻蝕，對固體器件進行...

NIM-4000（A）全自動離子銑刻蝕：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產生的離子束，可對固體材料濺射刻蝕，對固體器件進...

NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕：如銅和金等金屬不含揮發性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的...

NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕：如銅和金等金屬不含揮發性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常...

NIE-3000IBE離子束刻蝕：是一款手動放片/取片，但工藝過程為全自動計算機控制的臺式離子束刻蝕系統，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。