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電子化工用水設備處理簡介
微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品 、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝 及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要 求。目前我公司設計制造的電子級超純水設備出水水質符合美國ASTM標準，電子 部超純水水質標準(電阻率為18MΩ*cm，15MΩ*cm，10MΩ*cm，2MΩ*cm和 0.5MΩ*cm五級標準)我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純 水指標、日本集成電路水質標 詳細信息
電子化工用水設備處理工藝流程
預處理(砂濾器、碳濾器、軟化器)→一級反滲透裝置→中間水箱→二級反滲透 裝置→超純水水箱→純水泵→用水點 u 一級反滲透+混床制備超純水工藝流程 u 預處理→一級反滲透裝置→精制混床→精密過濾器→超純水水箱→純水泵→用 水點 二級反滲透+拋光混床制備超純水工藝流程 u 預處理→一級反滲透裝置→中間水箱→二級反滲透裝置→拋光混床→精密過濾 器→超純水水箱→純水泵→用水點 u 二級反滲透+EDI+拋光混床制備超純水工藝流程(電阻率18MΩ.cm) u 預處理→一級反滲透裝置→中間水箱→二級反滲透裝置→EDI主機→超純水水 箱→純水泵→拋光混床→超純水水箱→純水泵→用水點
特點
電子工業超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密 過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽