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| 價格區間 | 面議 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 |
優質基材
腔衰蕩時間光譜儀或EUV鏡的特殊激光應用的優質基材的特點是：
Ø準確的幾何形狀：有關直徑，厚度，折痕或曲率半徑等幾何特性的公差，請參見我們目錄的第12頁
Ø表面粗糙度
Ø表面形狀公差
Ø拋光表面上的缺陷數量
LAYERTEC針對所有這些參數優化了拋光程序。 在下文中，我們就會展示使用熔融二氧化硅和氟化鈣可獲得的出色結果。
規格
表面粗糙度
ØRMS-熔融石英和氟化鈣的平面基板的粗糙度<1.5Å
Ø在光滑彎曲的球形熔融石英表面上得到相似的結果（取決于直徑和曲率半徑的比率）
Ø即使在紫外線范圍內，基材的散射損耗也非常低：
ØTS = 2 x 10 – 5 at 248nm (total backscattering)
ØTS = 5.6 x 10 – 4 (total backscattering) and 7.5 x 10 – 4 (forward scattering) at 193 nm
Ø即使在DUV / VUV波長范圍內也適用于低損耗光學元件
高質量拋光熔融石英基板的功率譜密度（PSD）曲線（在FhG IOF Jena上執行的測量）
高質量拋光CaF2基板（在FhG IOF Jena執行）的3D AFM測量，均方根粗糙度0.12nm
表面形狀公差
Fused silica | Plane | λ/20 (633nm) for diameters of 6.35mm … 101.6 mm |
Spherical | λ/10 (633nm) for diameters of 6.35mm … 38.1mm | |
CaF2 | Plane | λ/10 (633nm) for diameters of 12.7mm … 25.4 mm |
λ/4 (633nm) for diameters of 38.1mm … 50.8 mm | ||
Spherical | λ/4 (633nm) for diameters of 12.7mm ... 50.8mm |
表面質量
Material | ISO 10110 (∅25mm) | Approximately equivalent to MIL-O-13830 |
Fused Silica | 5/1x 0.010 L1x 0.0005 | Scratch - Dig 5 - 1 |
CaF2 | 5/1x 0.016 L1x 0.0010 | Scratch - Dig 10 - 2 |
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