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UV透射光柵 參考價：面議
UV透射光柵是分光計和采用小型檢測器陣列的其他緊湊型系統的理想選擇。本產品以簡單的方式在波長范圍介于250 – 450nm之間的固定光柵應用中分散光線。在入射光...
可見光區透射光柵 參考價：面議
可見光區透射光柵可將特定入射角的光線分散開。分散角度取決于入射角和線間距。隨著入射角度的增大或者線寬的減小，分散量逐漸增大。線寬越大，效率越高；線寬越密，在長波...
透射光柵分光鏡 參考價：面議
透射光柵分光鏡通常用在激光光束分離以及可見光多波長激光光譜分離。透射光束衍射成多重。本公司的是由一個環氧層復制在與其折射率匹配的拋光玻璃基層上組成的，這樣可提高...
反射式全息光柵 參考價：面議
反射式全息光柵是由兩束激光束干涉形成條紋，并在拋光底片上曝光，曝光介質上就形成了正弦橫截面圖案。全息光柵產生的雜散光比刻劃光柵少，每毫米可有3600線，高于理論...
NIR 反射式鍍金光柵 參考價：面議
NIR 反射式鍍金光柵 刻劃式鍍金版商用光柵的在0.7-1.1微米波段效率提高了15-20%，可用于光纖脈沖壓縮以及使用硅探測器進行光譜設置等。
全息衍射光柵膠片 參考價：面議
全息衍射光柵膠片采用兩種不同線寬規格：12，700線/英寸（500線/mm）和25400線/英寸（1000線/mm）。提高單位長度下的線條數量，衍射級的散射角將...
Edmund新品光柵 參考價：面議
Edmund新品光柵與刻線式光柵相比，Richardson Gratings™ 高精度反射式全息衍射光柵的光散射更低，使其成為對拉曼光譜儀等雜散光敏...
刻線式衍射光柵 參考價：面議
刻線式衍射光柵可將復色光（白光）分離成各種組分（通過衍射效應）。各種光柵是由高精度的母光柵進行多次復制而成。光柵復制過程見如下描述。高品質儀器的光柵可近乎滿足所...
高性能反射光柵 參考價：面議
高性能反射光柵設計用于提供*且可預測的性能。這種高度的可重復性簡化了OEM系統的設計，并且降低了對枯燥的校準調整的需求。這些光柵具有λ/4的反射波前和高達90%...
Shimadzu衍射光柵 參考價：面議
Shimadzu衍射光柵光柵槽是通過全息曝光方法形成的，其中應用了雙激光束干涉技術。這種全息方法降低了機械刻劃光柵中常見的刻槽周期誤差，保證了低雜散光光柵的制作...
相位掩模版（光柵） 參考價：面議
相位掩模版（光柵）用于制造光纖布拉格光柵，它是控制高性能光學網絡中波長選擇性和色散補償的關鍵組件。相位掩膜板具有廣泛的應用，但是比較常見的是，PMT相位掩膜板（...
平面全息光柵 參考價：面議
平面全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激...
透射光柵2 參考價：面議
透射光柵2光路設計簡單，對于使用固定式光柵的應用，優勢明顯，比如光譜儀。入射光束在光柵背面以固定角度發生色散。對一些類型的光柵準直誤差不敏感。為了獲得高衍射效率...
ZEISS 凹面衍射光柵 參考價：面議
ZEISS 凹面衍射光柵將色散和成像性質合并到單一光學組件上，以集成到光譜系統中。這些凹面光柵采用全息方式生產，同時優化了焦平面，并大限度減少了光柵波長范圍內的...
平面刻線衍射光柵（25x25x6mm） 參考價：面議
平面刻線衍射光柵（25x25x6mm）制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行...
平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm） 參考價：面議
平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm） 制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻...
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