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| 價格區間 | 面議 | 應用領域 | 電子/電池,航空航天,綜合 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 |
極紫外 （EUV） 球面反射鏡
超拋光基片上的鉬/硅多層鍍膜
13.5nm 下可實現的大反射
設計用于 EUV 光束聚焦應用
適用于 HHG 應用的窄通帶
極紫外 （EUV） 球面反射鏡 具有多層鉬/硅鍍膜，在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它們專為 5o 入射角設計，并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS，可大程度地降低散射。這對 EUV 波長*，因為 EUV 波長的散射比長波長更多. EUV 球面反射鏡的通帶非常窄，約為 0.5nm，確保只會在高諧波生成 (HHG) 應用中反射 13.5nm 的關注諧波。EUV 球面反射鏡的典型應用包括相干衍射成像 (CDI)、EUV 成像和 EUV 納米加工.
注意:
每個反射鏡均附運行樣本的測試數據.
極紫外 （EUV） 球面反射鏡產品信息
| DWL (nm) | Dia. (mm) | EFL (mm) | 涂層 | 涂層規格 | 產品編碼 |
| 13.5 | 25.40 | 250.00 | Mo/Si Multilayer Layer: Silicon | Rabs>60% @ 13.5nm | #11-730 |
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