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參考價	面議

全反射X熒光光譜儀

價格區間	100萬-150萬	行業專用類型	通用
儀器種類	臺式/落地式	應用領域	綜合

TXRF全反射X熒光光譜儀分析原理是基于X熒光能譜法，但與X射線能譜形成對比的是，傳統能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品，而TXRF采用毫弧度的臨界角（接近于零度角）入射。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級X光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發生，同時減小了載體的背景和噪聲，亦可減少樣品使用量。

詳細介紹

　　TXRF(全反射X熒光)分析原理是基于X熒光能譜法，但與X射線能譜形成對比的是，傳統能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品，而TXRF采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級X光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發生，同時減小了載體的背景和噪聲，亦可減少樣品使用量。

　　TX2000 將全反射和傳統的能量色散集成在同一臺儀器上，創新光學編碼器的步進電機，角度測量，軟件控制Mo/W靶可自由切換，采用高分辨、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測器。

　　全反射X熒光光譜儀應用范圍

　　TX2000 可檢測從鈉Na到钚Pu所有元素含量，可進行痕量或超痕量元素分析(ppt或pg)，廣泛的應用在環境分析(水、灰塵、沉積物、大氣懸浮物)，制藥分析(生物體液和組織樣品中的有害元素)，法醫學(微小證據分析)，化學純度分析(酸、堿、鹽、溶劑、水、超純試劑)，油品分析(原油、輕質油、燃料油)，染料分析(墨水、油漆、粉末)，半導體材料分析(揮發相分解)，核材料工業(放射性元素分析)。

　　全反射X熒光光譜儀主要特點

　　1、單內標校正，有效簡化了定量分析，無基體影響；

　　2、對于任何基體的樣品可單獨進行校準和定量分析；

　　3、多元素實時分析，可進行痕量和超痕量分析；

　　4、不受樣品的類型和不同應用需求影響；

　　5、*的液體或固體樣品的微量分析，分析所需樣品量小；

　　6、優良的檢出限水平，元素分析范圍從鈉覆蓋到钚；

　　7、動態線性范圍；

　　8、無需任何化學前處理，無記憶效應；

　　9、非破壞性分析，運行成本低廉。

　　根據分光系統的不同，XRF光譜儀主要有波長色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)兩種，二者結構示意如下圖：