X射線光源-真空組件 參考價：面議
X射線光源-真空組件X射線光源（可用于X射線電子能譜） 雙陽極X射線光源多種陽極材料具有差分抽氣或者從安裝口抽氣70mm O.D. CF安裝法蘭
臺式磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
臺式磁控濺射鍍膜儀該系統可以作為以下功能裝置：1，研發級R&D鍍膜設備，性能優異2，具備所有研發級別的鍍膜要求3，高效的沉積速率，鍍膜時間快4， 實驗室中培訓的...
金屬有機化學氣相沉積鍍膜系統（MOCVD） 參考價：面議
金屬有機化學氣相沉積鍍膜系統（MOCVD）其反應器的設計可以根據工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產的需要。我們也能為客戶設計以滿足客戶特殊工藝和應用的需要...
超高真空多功能薄膜制備系統 參考價：面議
超高真空多功能薄膜制備系統此系統可以配置多種沉積方式（預留各種功能接口）,高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研. 高真空條件沉積模式（使用機械泵+分子泵，或冷凝...
有機分子束沉積鍍膜系統 參考價：面議
有機分子束沉積鍍膜系統電子束蒸發系統、熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學氣相淀積系統PECVD/ICP Et...
在線量產型磁控濺射鍍膜系統 參考價：面議
在線量產型磁控濺射鍍膜系統 高轉換效率大容量吸收，電池可靠性長達10年抗輻射
離子束刻蝕設備 參考價：面議
離子束刻蝕設備離子拋光離子清洗等離子體灰化等離子體氧化、氮化表面改性 反應刻蝕 生物醫藥傳感器
PECVD+RIE等離子體增強化學氣相沉積設備 參考價：面議
PECVD+RIE等離子體增強化學氣相沉積設備該系統中的PECVD可以沉積高質量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜等。標準配置射頻（...
反應離子刻蝕設備（美國產，高性價比） 參考價：面議
反應離子刻蝕設備（美國產，高性價比）-聚合物或光阻的等溫各向同性干刻-硅片或玻璃表面清潔-硅表面氧化去除
真空快速退火爐RTP-材料設備 參考價：面議
真空快速退火爐RTP-材料設備RTA（快速熱退火）； RTO（快速熱氧化）；注入退火；擴散；化合物半導體退火；滲氮；滲硅； 結晶化與致密化；
光刻機/紫外曝光機 參考價：面議
光刻機/紫外曝光機該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；以...
勻膠機，旋涂儀 參考價：面議
勻膠機，旋涂儀其工作原理是高速旋轉基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同, 也和旋轉速度及時間有關。
電子束蒸發鍍膜系統 參考價：面議
電子束蒸發鍍膜系統熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學氣相淀積系統PECVD/ICP Etcher、電子回旋共...
磁控濺射鍍膜系統 參考價：面議
磁控濺射鍍膜系統專業的沉積設備制造商，為各個領域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案：電子束蒸發系統、熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積...
深能級瞬態譜儀2-半導體表征 參考價：面議
深能級瞬態譜儀2-半導體表征深能級瞬態譜儀是半導體領域研究和檢測半導體雜質、缺陷深能級、界面態等的重要技術手段！測試功能：電容模式、定電容模式、電流模式、（雙關...
勻膠機 參考價：面議
勻膠機其工作原理是高速旋轉基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同, 也和旋轉速度及時間有關。
脈沖激光沉積分子束外延鍍膜系統 參考價：面議
脈沖激光沉積分子束外延鍍膜系統優異的性能, PVD公司生產的脈沖激光沉積分子束外延系統在國內有較多用戶，為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇章。歡迎前來參觀咨詢。
脈沖激光沉積鍍膜系統（PLD） 參考價：面議
脈沖激光沉積鍍膜系統（PLD）靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準...
基質輔助脈沖激光沉積鍍膜系統 參考價：面議
基質輔助脈沖激光沉積鍍膜系統The polymer material will then deposit on the substrate while the ...
空氣示蹤器-德國氣溶膠設備 參考價：面議
空氣示蹤器-德國氣溶膠設備此儀器用于空氣流動的觀測，可以自身可控產生非危險煙氣，便于攜帶和安裝測試。使用時，在選定檢測點由探頭頂部產生煙氣，氣流平緩穩定。廣泛應...
煙霧發生器-德國氣溶膠設備 參考價：面議
煙霧發生器-德國氣溶膠設備此系統致力于煙霧的研究，廣泛應用在各國授權的煙火研究分析實驗室，專業分析高標準濾材。 某些特殊行業需要超高潔凈度，對濾材要求高，例如核...
高濃度/高溫/高壓氣溶膠稀釋器-德國設備 參考價：面議
高濃度/高溫/高壓氣溶膠稀釋器-德國設備粒徑范圍內具有很低的顆粒物損失率。在高濃度的氣溶膠分析時，它能降低顆粒物入口濃度，使顆粒物的入口濃度在儀器操作Z敏感、精...
粉塵氣溶膠發生器-德國設備 參考價：面議
粉塵氣溶膠發生器-德國設備將粉末樣品裝入圓柱型存儲器中,通過活塞輸送到旋轉刷,旋轉刷將準確輸送一定量的樣品到擴散頭,在擴散頭處通過噴嘴加速,氣流將被加速到180...
凝聚式單分散氣溶膠發生器2-德國設備 參考價：面議
凝聚式單分散氣溶膠發生器2-德國設備凝聚式單分散氣溶膠發生器包含三個部分:晶核源,蒸發器,冷凝器.首先通過一般的噴霧發生器產生晶核源,晶核經過裝有氣溶膠物質(如...
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