大氣監測無人機-氣溶膠設備（德國） 參考價：面議
大氣監測無人機-氣溶膠設備（德國）Hours是新一代大氣監測無人機，它結合了目前流行的多旋翼無人機特點和大氣監測系統，可以實現對空中，河流上方等無法到達的位置等...
便攜式粒徑譜儀-氣溶膠設備（德國） 參考價：面議
便攜式粒徑譜儀-氣溶膠設備（德國）便攜式粒徑譜儀具有穩定的輸出和更長的使用壽命。所有系統包括一個可插入式過濾器（直徑47或50毫米）的接口。因此進行氣溶膠組成成...
氣溶膠粒徑譜儀2-德國設備 參考價：面議
氣溶膠粒徑譜儀2-德國設備氣溶膠粒徑譜儀21.光散射原理,90度散射角檢測 2.T型孔傳感器技術,消除了邊緣效應和重疊粒子計數 3.分辨率高 4.準確度和穩定性...
鹽霧氣溶膠發生器-德國設備 參考價：面議
鹽霧氣溶膠發生器-德國設備懸浮液、溶液和生物制劑中固體顆粒的生成優勢良好的短期和長期氣溶膠穩定性可調粒徑寬范圍儲液罐易加注大型儲液罐（500 cm3）堅固的設計...
氣溶膠稀釋器-德國設備 參考價：面議
氣溶膠稀釋器-德國設備它能降低顆粒物入口濃度，使顆粒物的入口濃度在儀器操作高敏感、高精度的范圍內。它有兩檔標準的稀釋率，即100:1和10:1，兩臺稀釋器串連使...
ISO16890濾料測試系統-氣溶膠設備（德國） 參考價：面議
ISO16890濾料測試系統-氣溶膠設備（德國）ISO16890濾料測試系統不同系統配置可用于測試濾料、小型過濾元件、高效過濾器、一般通風過濾器、壓縮空氣過濾器...
油霧氣溶膠發生器-德國設備 參考價：面議
油霧氣溶膠發生器-德國設備油霧常見于研究和質量檢驗行業中。在特定的質量檢驗和顆粒測量設備的校正中，Palas公司的氣溶膠發生器確保在可靠的參數條件下，結果穩定可...
熱舟蒸發源-真空組件 參考價：面議
熱舟蒸發源-真空組件應用范圍： 薄層沉積； 光學涂覆； 混合層沉積； 金屬電極接觸。
俄歇電子能量譜-真空組件 參考價：面議
俄歇電子能量譜-真空組件俄歇電子能量譜是一種利用高能電子束為激發源的表面分析技術. AES分析區域受激原子發射出具有元素特征的俄歇電子。俄歇電子在固體中運行也同...
等離子體原子/離子源-真空組件 參考價：面議
等離子體原子/離子源-真空組件產生感應耦合等離子體,包括氮氣,氧氣和氫氣等分子氣體。使用1個射頻線圈（頻率13.56MHz）,能量將轉化為等離子體，這會產生僅具...
半球型電子能量分析譜-真空組件 參考價：面議
半球型電子能量分析譜-真空組件大型高透射半球形電子能量分析譜--120mm半徑.¨ 全程180度反轉角度.¨ 邊緣界線區域校正--使用Jos...
電子束蒸發源-真空組件 參考價：面議
電子束蒸發源-真空組件電子束蒸發源對于使用常用熱蒸發技術非常難蒸發的材料,電子束蒸發是一種有效的蒸發手段.通過高能電子束射向靶材來升高靶材溫度.相比于通常輻射或...
磁控濺射靶源-真空組件 參考價：面議
磁控濺射靶源-真空組件我司提供的磁控濺射源是目前一和超高真空系統（1e-11torr）匹配的商業用濺射源。 在不配置彈性墊圈的結構中，可烘烤至250℃。在匹配的...
IG2離子源-超高真空 參考價：面議
IIG2離子源-超高真空典型應用是氬離子濺射清洗表面（中科院物理所配置多套IG2型離子源）濺射清洗 /表面準備，用于表面科學，MBE ，高真空濺射過程離子輔助沉...
皮可安培計-材料表征 參考價：面議
皮可安培計-材料表征技術參數：接口輸入: BNC; 模擬輸出: Banana jacks偏壓選項：無偏壓/ 內置偏壓 （± 90 V DC）/ 外置偏...
真空腔體水氣解吸附組件 參考價：面議
真空腔體水氣解吸附組件Zcuve是近年來上較多使用的水蒸氣解吸技術。*的設計可從2.75“擴展到8"法蘭尺寸，具有比例較高的紫外線功率因數
狹縫擠壓型涂布儀-勻膠機 參考價：面議
狹縫擠壓型涂布儀-勻膠機狹縫擠壓型涂布儀夾縫式擠壓型涂布儀（Slot Die Coater）可以用于可復制重復性測試。歸功于桌面小型化的設計。它也可以大幅降低材...
微型磁控濺射鍍膜設備 參考價：面議
微型磁控濺射鍍膜設備這款來自美國的微型磁控濺射系統滿足研究所和研發部門對真空薄膜沉積的性能要求，占用空間小，具有超高的性價比，可以向客戶提供優質的服務。
真空快速退火爐-材料設備 參考價：面議
真空快速退火爐-材料設備一般都是以紅外鹵素燈為發熱元件，升溫速度極快，采用熱電偶測溫并采用*的PID控制，具有很高的控溫精度，快速退火爐具有真空裝置，可在多種氣...
超高真空磁控濺射鍍膜系統 參考價：面議
超高真空磁控濺射鍍膜系統美國專業的制造商PVD公司是一家在磁控濺射沉積，電子束蒸發沉積，脈沖激光沉積等領域有著20年制造經驗。
電子束蒸發鍍膜系統 參考價：面議
E-Beam電子束蒸發鍍膜系統304不銹鋼圓柱形腔體，標準直徑有18英寸和24英寸，分子泵或冷凝泵；手動傳片或自動傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓...
金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備 參考價：面議
金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備反應器的設計可以根據工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產的需要。我們也能為客戶設計以滿足客戶特殊工藝和應用的需要。系統部件...
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統 參考價：面議
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統該系統由專業的沉積設備商制造,配置多種沉積方式（預留各種功能接口）,高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.
等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統 參考價：面議
等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統通常選用射頻淋浴源（RF）或帶有不規則氣體分布的空心陰極射頻等離子體源作為反應源產生等粒子體。部分PECVD可以升級到PECVD...
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