火焰輔助噴霧熱分解涂覆設備--MSK-TH-04FA 參考價：面議
MSK-TH-04FA has been developed for research in surface quality improvement of me...
超聲霧化熱解涂覆薄膜設備-- MSK-SP-04-LD 參考價：面議
噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上，然后在基底上得到想得到的物質結構。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應用中已有相當長的...
超聲波霧化模塊（含130W的電源控制器和噴頭）--MSK-SP-01A 參考價：面議
超聲波霧化是利用超聲波能量將液體或是膠狀法分散成微米級的顆粒，其特點為霧粒噴出的初速度較小，且分散的霧粒尺寸較均勻。MSK-SP-01A就是一超聲霧化模塊，含有...
2英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-2-LD 參考價：面議
HVMSS-SPC-2是一款可安裝直徑為2英寸靶材的磁控濺射頭，可適用的靶材種類較廣，如金屬/絕緣靶材或磁性/非磁性靶材。環形NdFeB永磁體安裝在濺射頭上，以...
500W直流濺射電源--DC-500-LD 參考價：面議
500W直流濺射電源--DC-500-LD
1英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-1-LD 參考價：面議
HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材。可與直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶...
高真空腔體--HVC-SS 參考價：面議
本公司提供高真空腔體，客戶可自行為一些實驗搭建真空系統，如等離子濺射，CVD或ALD等實驗，同時也可作為高真空儲存箱。
100W小型RF（射頻）電源（采用手動匹配）--RF-100-LD 參考價：面議
RF-100-LD是一款小型手動匹配100WRF（射頻）電源，頻率為13.56MHz.此設備設計專門與本公司的1英寸的磁控濺射頭配用，可搭建起一套比較廉價的濺射...
高溫提拉涂膜機--PTL-HT 參考價：面議
PTL-HT高溫提拉涂膜機能夠提供溫度高達1000℃的提拉涂膜環境，廣泛用于各種高溫提拉涂膜研究。例如，陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜。本機...
全自動5工位恒溫提拉涂膜機--PTL-OV5P 參考價：面議
PTL-OV5P全自動5工位恒溫提拉涂膜機用于同一樣件在不同液相中的多層涂膜，Z多可達到5層。本機廣泛用于納米、化工、金屬等材料領域，更是廣大高等院校、研究院所...
恒溫提拉涂膜機--PTL-MMB01 參考價：面議
PTL-MMB01恒溫提拉涂膜機是專為研究液相外延薄膜而設計的，在恒溫環境中，通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜。
旋轉涂層機--VTC-50 參考價：面議
VTC-50旋轉涂層機能夠瞬間提供可控高速旋轉速度，迅速將液體、膠狀體等材料在襯底上成膜。由于采用鑄鋁結構，在高轉速下運行平穩。
防腐型旋轉涂層機--VTC-200P 參考價：面議
VTC-200P是一款防腐型真空旋轉涂層機，機體和真空旋轉盤都采用尼龍材料制作，所以儀器具有非常強的抗酸抗堿性，儀器中包括4個真空吸盤，針對于直徑為10mm到6...
小型流延自動涂膜烘干機 參考價：面議
MSK-AFA-III是一款帶有自動烘干功能的小型涂覆機，通過勻速地推動精密制膜器，已達到平滑和均勻的涂覆效果。儀器采用真空吸附來固定襯底，使得涂覆過程中襯底不...
3靶等離子濺射儀 參考價：面議
VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認證的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），基片Z大尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式。它可以濺射三種類型的靶材...
小型蒸鍍儀--GSL-1100X-SPC-15E-LD 參考價：面議
GSL-1100X-15E是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如 Al. Mg, 和Li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理，Z大可處理的樣品直徑為50mm...
高真空蒸發鍍膜儀--GSL-1800X-ZF4 參考價：面議
GSL-1800X-ZF4是一款高真空的蒸發鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些對氧較敏感的金屬膜，如Ti, Al 和Au等，也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個蒸...
近距離蒸發鍍膜 （ CSS）爐 參考價：面議
OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發管式爐，專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11" OD，爐管內載樣盤可放置3" 的圓形或...
膜厚監測儀--EQ-TM106 參考價：面議
EQ-TM106膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理，結合先進的頻率測量技術，進行膜厚的在線監測。主要應用于MBE、OLED熱蒸發、磁控濺射等設備的薄膜制備過程中，...
500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2DC 參考價：面議
VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體...
300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2RF 參考價：面議
VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空...
1英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀--VTC-1RF 參考價：面議
VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型），配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設備主要用于制作非導電薄膜，特別是一些氧化...
雙靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，...
11