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晶圓光致發光和缺陷檢測系統Imperia系統可檢測并分類晶圓缺陷,實現光致發光（PL）生產監控。
晶圓光致發光和缺陷檢測系統將這兩個外延后計量篩選功能組合到一個高通量系統中，可最大限度地減少寶貴的晶圓廠空間使用和盒處理時間。該產品可為用戶提供顯著的經濟節約（例如：準確預測MOCVD反應器產量和PM計劃）。
晶圓光致發光和缺陷檢測系統特點
高密度光譜光致發光PL映射
晶圓缺陷分析和分類
高分辨率外延層厚度和歸一化反射率成像
晶圓形狀輪廓和三維翹曲重建
高密度光譜PL映射：裸晶片和圖案化晶片上的峰值λ、峰值強度、半高寬和其他光子學相關參數
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