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等離子體監控系統采用等離子體光譜儀器制造離子體監測系統，適用于等離子體技術的幾乎任何應用，包括等離子體分析、等離子體監測和工藝you化。滿足生產線等離子體工藝的整體過程控制和質量保證。
等離子體監控系統特點
廣泛的測量數據采集
等離子體發射模塊與光纖光譜儀一起工作以高速連續采集從UV到NIR的等離子體光發射的光譜。這個HIPIMS/Pulse模塊允許對MHz范圍內的電壓信號和層進行觸發采樣控制模塊獲取生長薄膜的反射光譜和/或透射光譜。此外，信號輔助傳感器可以通過模擬電壓輸入輸入。
實時監控等離子體過程參數
從所獲取的發射數據中，可以選擇任意數量的等離子體線，持續監控等離子體條件和成分。HIPIMS/Pulse模塊提供電壓以及來自脈沖切片的電流值，例如HIPIMS過程的峰值電流。這個層控制模塊基于寬帶光譜擬合來計算膜厚度，或者相對于標準顏色空間的顏色值。從模塊獲取的所有數據實時導出，并且可以作為時間的函數顯示為所謂的監視器軌跡從而實時提供過程狀態的全面畫面。
等離子體測量儀典型應用：過程監控，探測等離子體蝕刻終點，等離子體污染和泄露，
等離子體監控系統規格參數
工作類型：fieldbus 系統集成，實時過程監控
光譜傳感器：200-1100nm
光譜通道：8個
光譜分辨率：1.5nm
動態范圍：16bit
時間分辨率：1ms
采樣時間：250us~分鐘
數據存儲：發射光譜，脈沖曲線,光譜層,信號傳感器
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