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紫外掩膜曝光系統是采用紫外LED冷光源的LED紫外曝光機和LED掩膜曝光機，是一種冷光源紫外LED掩膜曝光裝置，它提供標準的365nm紫外線,可適用6英寸晶圓，兼容硬接觸和軟接觸過程，并具有可變掩膜和襯底距離控制功能。
紫外掩膜曝光系統適合光學，生物科技，微電子，晶圓鍵合，固化，細胞培養等多種應用，廣泛用于紫外曝光固化。
紫外掩膜曝光系統是單色紫外發射，具有35mW/cm^2的功率密度，在6英寸的面積上光源均勻度搞到+/-10%, 是理想的高精度紫外曝光機。
這套紫外掩膜曝光系統采用了**的LED光源技實現單波長紫外冷光源照明，有效消除熱效應，非常適合實驗室或超凈間的紫外曝光使用。
紫外掩膜曝光系統結構緊湊，方便移動，采用觸摸屏控制操作，有效安全控制自我曝光室。
紫外掩膜曝光系統的LED紫外光源壽命高達1萬小時，非常可靠而耐用，不需要日常維護，非常方便使用。
紫外掩膜曝光系統特點
非常緊湊，桌上使用設計
的紫外單色LED冷光源
***大工作面積為4英寸晶圓
適合所有光刻膠
分辨率：2微米
無需預熱，直接開機使用
實時溫度控制功能確保均勻曝光
紫外照明功率強度可調
可單次曝光或連續曝光
適合光學，生物科技，微電子，晶圓鍵合，固化，細胞培養等多種應用
紫外掩膜曝光系統參數
波長：365nm
功率密度：40mW/cm^2
曝光過程中襯底溫度上升：<1攝氏度
曝光時間：1秒到18小時
可編程控制循環：10個
分辨率：2微米
外部尺寸：260x 260x260mm
重量：8.2kg
彩色觸摸屏：5.7英寸
供電要求：230V
用電功耗：200W
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