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　　真空鍍碳儀為SEM、TEM、STEM、EDS/WDS、EBSD和微探針分析提供高質量的鍍膜技術。產品結構緊湊，所占空間小。樣品室直徑150mm，可快速抽真空進行鍍膜處理，處理周期約10分鐘。高真空條件下使用超純的碳棒為嚴格的高分辨掃描電鏡、透射電鏡、EBSD及探針分析提供高質量的鍍膜處理。組件設計方式可方便地對不同優化條件下的各種應用進行切換。

 

　　真空鍍碳儀操作流程：

　　1、連接電源并打開主機（POWER）。

　　2、等綠燈亮后，再等3~5分鐘再調節電壓（4V）和時間（6s）。

　　3、打開主機背面的小開關，調整轉速在3~4檔，并設定電壓和時間。

　　4、打開測厚儀并使其歸零。

　　5、按START鍵開始噴碳。

　　6、實驗結束先停止設備轉動，并先關掉設備背面小開關。

　　7、再關POWER。

　　8、關機后打開玻璃罩上蓋，等其降到實溫之后再將其蓋好。

 

　　使用后的必要維護：

　　1、為保證真空鍍膜設備有清潔的工作環境，滑閥泵排出的氣體必須用管道將它排出工作房之外，因為從滑閥泵排出的氣體含有很多微小的油霧會污染被鍍的工件，嚴重影響膜層的質量。

　　2、平時整個系統要保持真空狀態，工作前才充入氣體，不要使真空室長期暴露在大氣中。

　　3、經常檢查膠封是否良好，特別是動密封圈，定期給動密封處加上真空脂。

　　4、定期檢查電氣元件，清除灰塵，更換燒壞的元器件。

　　5、定期清潔真空室并盡量抹干，每次都*洗干凈，以免造成越來越難洗的現象。烘干后再鍍膜，頭一爐應比原來延長四倍時間才鍍膜。

　　6、定期更換擴散泵油，更換真空泵及羅茨泵油。更換擴散泵油前一定要確認真空度是否低于1X102Pa，擴散泵里面的油溫是否*冷卻到常溫狀態后，方可進行加熱或充大氣進行拆卸，否則會產生傷害人的嚴重后果。