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的MHY-26174型旋涂機適應于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等，制版的表面涂覆。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動迅速等優(yōu)點，并能保證半導體材料中涂膠...

主要用于液體，膠體的成膜性能試驗，表面涂覆。*MHY-26173勻膠機 電腦（單片機）控制，可預置并記憶轉(zhuǎn)速，控制轉(zhuǎn)盤均勻加速；2段式作方式

勻膠機產(chǎn)品簡介：主要用于液體，膠體的成膜性能試驗，表面涂覆。*電腦控制，可預置并記憶轉(zhuǎn)速，控制轉(zhuǎn)盤均勻加速； 旋轉(zhuǎn)時間預置，到時，控制轉(zhuǎn)盤均勻減速。 *轉(zhuǎn)速:3...

MHY-26377臺式數(shù)顯勻膠臺是集成電路、半導體電路、掩模版制、激光息商標制過程中用于在基片上行光刻膠涂布的用設(shè)備。

數(shù)顯勻膠臺本機是用于半導體、集成電路及激光息商標制過程中，在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻（感光）膠的用設(shè)備。本機的作原理是利用速旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生的離...

勻膠機精度 指標 基片尺寸 5-200mm 速度范圍 1-12000RPM 轉(zhuǎn)速精度 1RPM 轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度 ±0.1% 加速度范圍 1-10000RP...

勻膠機參數(shù) ：1、調(diào)速范圍和勻膠時間Ⅰ檔　調(diào)速范圍：50-10000轉(zhuǎn)／分，Ⅰ檔　勻膠時間：0-999秒Ⅱ檔　調(diào)速范圍：50-10000轉(zhuǎn)／分，Ⅱ檔　勻膠時間：...

勻膠機/適應于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等，制版的表面涂覆。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動迅速等優(yōu)點，并能保證半導體材料中涂膠厚度的*性和均勻性。...

1、智能程控勻膠機帶進膠保護與報警，2、旋涂正反轉(zhuǎn)可自由切換，3、帶速度上升曲線實時顯示，4、吸附不足報警與互鎖，5、旋涂腔室整體采用PTFE材料防酸防堿防腐蝕...

烤膠機概述：主要用于光刻中的旋轉(zhuǎn)涂膠后的軟烘，曝光后烘烤，顯影后的堅膜，磨片粘片熔蠟。

恒溫勻膠機簡介：主要用于液體，膠體在材料表面薄膜的形成，適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆。可在科研，教育，中應用。別是：可以成有機物的勻膠。（攝氏溫度...

產(chǎn)品簡介：MHY-26227勻膠儀旋涂儀主要用于液體，膠體在材料表面形成薄膜。MHY-26227性能勻膠機旋涂儀 適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，不銹鋼，金屬等制...

勻膠臺/是用于半導體、集成電路及激光息商標制過程中，在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻（感光）膠的用設(shè)備。本機的作原理是利用速旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生的離心力，...

智能程控勻膠機基片尺寸 5-150mm速度范圍 1-10000RPM轉(zhuǎn)速度 1RPM轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度 ±0.1%加速度范圍 1-10000RPM/S膠均勻性...

智能旋轉(zhuǎn)程控勻膠機?帶防飛片保護與報警 2.帶防膠保護與報警3.電機可正反轉(zhuǎn)4.配方帶掉電保護能5.加速度可調(diào)度 標基片尺寸 5-150mm速度范圍 1-100...

MHY-27126滴膠機是款小型，可以的將溶液滴到基片上。針管的使用讓更換溶液非常簡單，不用清洗，不用擔心其它溶液的潛在污染。這些點可以使滴膠作*化，成為實驗室...

a） .滴膠機溫度范圍：室溫~300，溫控可調(diào)b） 恒溫波動度≤±2°Cc） 溫度均勻性≤±3%（Z溫度時，作臺板上各處溫度均勻性...

MHY-29071度自動滴膠勻膠機旋涂儀 安裝有真空度傳感器，涂敷作過程電腦實時檢測系統(tǒng)真空度，在安的真空度下，電機啟動，運行。保障可靠吸片，不飛片。

智能勻漿儀是一種供試液制備儀器，它由大功率高速電機通過連軸器帶動裝在杯座上的攪拌刀高速旋轉(zhuǎn)，將檢品快速、打碎、均質(zhì)，與常規(guī)法制備的供試液相比，勻漿儀制備的供試液...

智能程控勻膠機度 標基片尺寸 5-200mm/5-600mm（選配）速度范圍 1-12000RPM/1-20000RPM（選配）轉(zhuǎn)速度 1RPM轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度 &#...