NF3是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體,對硅和氮化硅的蝕刻,采用NF3和CF4+O2的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性,而且對表面無污染。氫與NF3反應,在瞬間伴隨放出大量的熱,這就是NF3在高能化學激光器方面大量應用的原理。在高溫下,NF3與有機化合物反應常伴有爆炸性,操作時應十分謹慎。
三氟化氮(NF?)監測報警系統是專用于檢測NF?氣體濃度并實現安全聯鎖控制的工業安全設備,廣泛應用于半導體刻蝕工藝、光伏制造等場景。其核心由探測器、控制器及聯動模塊構成。
工作環境:
溫度:
催化燃燒:-40~+70℃;
電化學:-20~+50℃;PID:-20~+50℃;
紅外:-20~+50℃;
熒光法:-20~+50℃;
氧化鋯:-40℃~+700℃
壓力:86-110Kpa;(氧化鋯:≤0.6Mpa)
濕度:15%RH~95%RH(無凝露)
安裝要求:
探測高度:距地面0.3-1.5米(因NF?密度大于空氣)。
氣路連接:泵吸式采樣時,流量需穩定在0.4-0.6L/min。
維護校準:
每季度用標準氣體校準,偏差>±5%需調整。
電化學傳感器壽命約2年,NDIR傳感器壽命>5年。
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