選擇合適類型的X射線源是實現優質成像和拓寬應用范圍的關鍵。 在上一期的推文中，我們介紹了射線源「開管和閉管」的結構區別，本期我們繼續為大家介紹「反射靶和透射靶」兩種射線源結構。

反射式靶

反射式靶的特點在于其靶面與入射電子束形成一定傾斜角度。這種設計具有較大的散熱體積，因此可以承受較高電壓的加速電子。反射式靶的優勢在于能夠獲得更高的電子能量，從而產生更強的X射線輻射。這對于需要高能量成像的應用場景非常重要，例如：

· 汽車工業：檢測電子組件、電子控制單元、微型機械裝置、插頭和壓接件、電池盒等。

· 航空航天領域：檢測機械組件（如閥或襟翼制動器）、環向電子束焊（EB）焊縫、轉子葉片、渦輪葉片、飛機渦輪、電子組裝、小型鈦和鋁鑄件、復合材料等。

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透射式靶

透射式靶是一層薄膜，其靶面與入射電子束垂直。這種設計可以獲得更小的焦點尺寸和更大的輻射角度。透射式靶適用于需要高分辨率成像的場景，例如：

· 材料科學中的微焦點X射線成像：透射式靶可用于研究材料的微觀結構和缺陷。

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無論是「開管和閉管」，還是「反射靶和透射靶」，不同的結構組合，其成像質量、應用場景等各有不同，我們建議用戶在選擇設備時，一定要結合自身實際，充分考慮好檢測需求，再選擇最合適的射線源。只有根據實際情況做出明智的選擇，才能充分發揮X射線成像技術的潛力，為各領域的檢測和研究提供精準、高效的解決方案。