1200℃立式真空淬火箱式氣氛爐高溫光學(xué)玻璃連續(xù)熔煉爐種類介紹瓷鉑連續(xù)窯爐

      主要采用火焰與電極混合加熱融化的生產(chǎn)技術(shù)。近年來這種氣電混合能源池窯獲得了快速發(fā)展，它的熔化池作業(yè)大約一半是從上部火焰加熱和另一半是在玻璃液內(nèi)部用電加熱來完成的。他能熔制出只有全電熔才能獲得的優(yōu)質(zhì)玻璃，而比全電熔的加熱費用省。這種池窯可以小型化，并有碹頂溫度低和玻璃缺少等優(yōu)點。這種池窯的池壁裝有電極，火焰燃燒噴嘴則設(shè)在池壁或碹頂上，這種噴嘴保持較低的流速，因而配合料粉塵飛揚很少，還由于碹頂溫度較低，配合料組份的揮發(fā)也較少。由于配合料層從上表面和下表面同時進行融化，當(dāng)加以適當(dāng)攪拌，在上部火焰空間和玻璃液同樣保持較低溫度的情況下即完成合料的熔化過程，其熱效率可超過50%。

全電熔冷頂池爐此類窯爐熔制玻璃，是在配合料覆蓋（料彈）下面進行加熱的。配合料組份中的揮發(fā)氣體由下向上逸出時，碰到料毯進行凝結(jié)，而凝結(jié)的原料數(shù)量對配合料表面層的組合而言其值不變，所以通過流液洞的玻璃的組份與投入的配合料比較*。因此全電熔的重要*性之一就在于*提高玻璃光學(xué)常數(shù)均勻性和穩(wěn)定性，對于*性組批要求高的產(chǎn)品，采用全電熔技術(shù)具有不可比擬的優(yōu)點。僅以冷頂式垂直融化全電熔爐（VSM）為例。該爐在熔化池中可采用多層電極，在不同高度上可以方便地控制配合料熔化和澄清所需要的不同溫度，一部分澄清過程可以在熔化池的下部同時進行。池爐頂部有配合料參所覆蓋，溫度很低。此爐型已在國內(nèi)光學(xué)玻璃制造領(lǐng)域廣泛使用，適合生產(chǎn)冕牌系列玻璃及光學(xué)眼鏡片等產(chǎn)品。

全鉑連續(xù)熔煉池爐光學(xué)玻璃生產(chǎn)，為適應(yīng)市場小批量、多品種需要，小型全鉑池爐生產(chǎn)工藝是今后發(fā)展的一個方向：全鉑連熔池爐與上述兩種池爐相比，因為容積小，造價高，所以主要適用于易揮發(fā)、易析晶的鑭系玻璃和氟磷酸鹽玻璃等高附加值產(chǎn)品:全鉑連熔技術(shù)的應(yīng)用，使原來只能在單坩堝中漏注生產(chǎn)的鑭系玻璃實現(xiàn)了連續(xù)化生產(chǎn)，熔煉合格率提高，制造成本大為降低，推動了鑭系玻璃的大量應(yīng)用。

1200℃立式真空淬火箱式氣氛爐常規(guī)規(guī)格表 

 參數(shù)：

標(biāo)準(zhǔn)配件：高溫手套 1雙          坩堝勾    1把

               真空泵    1臺         說明書    1本