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碳化硅襯底位錯(cuò)缺陷光學(xué)無損檢測(cè)系統(tǒng)特點(diǎn)

SiC襯底位錯(cuò)缺陷檢測(cè)專用設(shè)備

光學(xué)非接觸無損檢測(cè)

BPD、TSD、TED分類識(shí)別

SiC襯底：4'/6'/8';導(dǎo)電、半絕緣

碳化硅襯底位錯(cuò)缺陷光學(xué)無損檢測(cè)系統(tǒng)：最高檢測(cè)速度：＜17 min/片（6"）

大連創(chuàng)銳光譜科技有限公司基于自主創(chuàng)新的時(shí)間分辨光譜技術(shù)，致力于推動(dòng)光譜技術(shù)在科研和工業(yè)領(lǐng)域的深入應(yīng)用。在科研儀器領(lǐng)域，創(chuàng)銳光譜由一線專家?guī)ш?duì)，是目前國(guó)內(nèi)極少具備瞬態(tài)光譜獨(dú)立研發(fā)-生產(chǎn)-應(yīng)用完整能力體系的團(tuán)隊(duì)。創(chuàng)銳光譜以時(shí)間分辨光譜核心技術(shù)，超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)為核心產(chǎn)品，打破進(jìn)口壟斷格局。主要產(chǎn)品包括瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)、共聚焦熒光成像系統(tǒng)、DPSS納秒激光器及高速探測(cè)器。在工業(yè)半導(dǎo)體檢測(cè)領(lǐng)域，公司以光譜技術(shù)創(chuàng)新為核心立足點(diǎn)，已迅速完成碳化硅襯底、外延、氮化鎵、鈣鈦礦電池等多領(lǐng)域布局。