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以下是電子超純水系統的介紹：
系統概述
電子超純水系統是專為電子行業生產超高純度水的設備，能為芯片制造、半導體加工等對水質要求高的工藝提供優質水源，去除水中幾乎所有的雜質，滿足精密制造對水質的嚴苛要求。
系統構成
- 預處理系統：包括多介質過濾器去除懸浮物、泥沙等大顆粒雜質；活性炭過濾器吸附余氯、有機物等；精密過濾器攔截更小粒徑的顆粒，保護后續設備。
- 反滲透系統：利用高壓泵使水通過反滲透膜，去除水中的大部分鹽分、有機物、微生物等，是除鹽的關鍵步驟。
- 離子交換系統：通常采用混床樹脂，進一步去除水中殘留的微量離子，實現深度除鹽，提高水的純度。
- 精處理系統：有超濾裝置去除微小顆粒和膠體；紫外線殺菌器殺滅細菌和病毒；拋光混床對水質進行最終的精細處理，確保水質達到超純標準。
- 供水系統：由超純水儲存罐（氮封水箱）和輸送泵等組成，通過循環管路將超純水穩定地輸送到各個用水點，保證用水的連續性和穩定性。
系統特點
- 超高水質：能生產出電阻率高達18MΩ·cm以上的超純水，滿足電子行業嚴格的水質要求。
- 自動化程度高：采用先進的自動化控制系統，可實現遠程監控、自動調節運行參數、故障報警和診斷等功能，減少人工操作，提高系統運行的可靠性和穩定性。
- 穩定運行：系統設計合理，關鍵設備采用高品質材料和部件，具備良好的抗腐蝕、抗污染能力，可長期穩定運行，降低維護成本。
應用領域
- 半導體制造：用于芯片清洗、光刻、蝕刻等工藝，防止雜質影響芯片性能和成品率。
- 顯示面板生產：如液晶面板、OLED面板制造中的鍍膜、清洗等工序，保證面板的顯示質量和穩定性。
- 電子元器件生產：在電容器、電阻器、集成電路封裝等生產過程中，提供高純度的清洗用水和工藝用水。
核心技術指標
指標 | 半導體行業要求 | 技術參數說明 |
電阻率 | ≥18.2 MΩ·cm（25℃，SEMI F78） | 動態穩定，波動≤±0.1 MΩ·cm，反映離子含量極低。 |
硼離子（B3?） | ≤0.05 μg/L（ASTM-D5127-13） | 硼為P型摻雜劑，過量會導致n型硅反型，需通過靶向樹脂深度去除至≤1 ppt（部分工藝）。 |
總有機碳（TOC） | ≤5 ppb | 有機物影響半導體材料性能，需185nm波長紫外線+活性炭聯合處理。 |
金屬離子 | ≤1 ppt（Na?、K?、Fe3?等） | 堿金屬和重金屬導致PN結失效，通過離子交換樹脂精準控制。 |
顆粒污染 | ≤200個/mL（≥0.05μm，SEMI F83） | 亞微米級顆粒需通過超濾+精密過濾去除，防止電路短路。 |
微生物 | ≤0.1 CFU/mL | 微生物代謝產物含磷，需紫外線殺菌+0.22μm終端過濾。 |
典型工藝
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