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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
產(chǎn)品簡(jiǎn)介： SE-L 光譜橢偏儀是一款全自動(dòng)高精度光譜橢偏儀，集眾多科技技術(shù)，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù)，配置全自動(dòng)測(cè)量模塊。通過(guò)橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測(cè)量，快速實(shí)現(xiàn)光學(xué)參數(shù)薄膜和納米結(jié)構(gòu)的表征分析。SE-L 光譜橢偏儀廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu)：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、 PZT 膜，激光二極管 GaN 和AlGaN、透明的電子器件、平板顯示、光伏太陽(yáng)能、功能性涂料、生物和化學(xué)工程、塊狀材料分析等領(lǐng)域。
| 產(chǎn)品型號(hào) | SE-L 光譜橢偏儀 |
| 主要特點(diǎn) | 1、高精度自動(dòng)測(cè)量光學(xué)橢偏測(cè)量解決方案
2、全自動(dòng)變角、調(diào)焦等控制平臺(tái)，一鍵快速測(cè)量
3、軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì)，易上手、操作便捷
4、豐富的數(shù)據(jù)庫(kù)和幾何結(jié)構(gòu)模型庫(kù)，保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力
5、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)
6、高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、 PCRSA 配置， 實(shí)現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采 集
7、全自動(dòng)橢偏測(cè)量技術(shù)，基于行業(yè)電機(jī)控制技術(shù)，全自動(dòng)調(diào)整測(cè)量角 |
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| 度，高精度控制樣件臺(tái)，實(shí)現(xiàn)樣件快速自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)找焦
8、頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi)，提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜
9、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫(kù)、多種算法模型庫(kù)，涵蓋了目前絕大部分的光電材料 |
| 技術(shù)參數(shù) | 1、自動(dòng)化程度：自動(dòng)變角
2、應(yīng)用定位：自動(dòng)型
3、基本功能： Psi/Delta、N/C/S、R/T 等光譜
4、分析光譜： 380-1000nm(可擴(kuò)至 193-2500nm)
5、單次測(cè)量時(shí)間： 0.5-5s
6、重復(fù)性測(cè)量精度： 0.01nm
7、光斑大小： 大光斑 2-3mm,微光斑 200um
8、入射角調(diào)節(jié)方式：自動(dòng)變角
9、入射角范圍： 45-90°
10、找焦方式：自動(dòng)找焦
11、Mapping 行程： 支持 100x100mm(可選配)
12、支持樣件尺寸： 至 200mm |
| 可選配置 | 波段選擇
V:380-1000nm
UV:245-1000nm
XN:210-1650nm
DN+:193-2500nm 角度選擇
自動(dòng):45-90°
其他選擇 |
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| Mapping 選擇:100×100mm(供參考,按需定制)
溫控臺(tái):室溫一 600℃(供參考,按需定制) | |
| 可選配件 | 1 | 溫控臺(tái) |
| 2 | Mapping 擴(kuò)展模塊 | |
| 3 | 真空泵 | |
| 4 | 透射吸附組件 | |