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產品簡介
產品簡介：TF200薄膜厚度測量系統利用薄膜干涉光學原理，對薄膜進行厚度測量及分析
詳細介紹
產品簡介：TF200 薄膜厚度測量系統利用薄膜干涉光學原理，對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面，探頭同位接收反射光線。TF200 薄 膜厚度測量系統根據反射回來的干涉光，用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍 1nm-3mm，可同時完成多層膜厚的測試。對于 100nm 以上的薄膜，還可以測量n 和k 值。
| 產品名稱 | TF200 薄膜厚度測量系統 | |||
| 產品型號 | TF200-VIS | TF200-EXR | TF200-DUV | TF200-XNIR |
| 主要特點 | 快速、準確、無損、靈活、易用、性價比高 | |||
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應用領域 | 半導體（SiO2/SiNx、光刻膠、 MEMS ，SOI 等） LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、 聚亞酰胺 ITO 等) LED (SiO2 、光刻膠 ITO 等） 觸摸屏(ITO AR Coating 反射/穿透率測試等) 汽車(防霧層、 Hard Coating DLC 等） | |||
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| 醫學（聚對二甲苯涂層球囊/壁厚藥膜等） | |||
| 波長范圍 | 380-1050nm | 380-1700nm | 190-1100nm | 900-1700nm |
| 厚度范圍 | 50nm-40um | 50nm-300um | 1nm-30um | 10um-3mm |
| 準確度（取決于材 料0.4%或 2nm 之間 取較大者） |
2nm |
2nm |
1nm |
10nm |
| 精度 | 0.2nm | 0.2nm | 0.2nm | 3nm |
| 入射角 | 90° | 90° | 90° | 90° |
| 樣品材料 | 透明或半透明 | 透明或半透明 | 透明或半透明 | 透明或半透明 |
| 測量模式 | 反射/透射 | 反射/透射 | 反射/透射 | 反射/透射 |
| 光斑尺寸（可選微 光斑附件。） | 2mm | 2mm | 2mm | 2mm |
| 是否能在線 | 是 | 是 | 是 | 是 |
| 掃描選擇 | XY 可選 | XY 可選 | XY 可選 | XY 可選 |