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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
產(chǎn)品簡介： 1700℃立式淬火爐 GSL-1700X-80VTQ 采用直徑 80mm 的氧化鋁爐管、下置淬冷水箱結(jié)構(gòu)， 專 為淬火樣品能從高溫狀態(tài)進(jìn)入冷水或油等淬冷介質(zhì)中快速冷卻而設(shè)計，以研究材料階段性過渡和微觀結(jié)構(gòu)。
產(chǎn)品型號 | 1700℃立式淬火爐 GSL-1700X-80VTQ |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下， 溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：不需要 2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3 、氣： 如作為 CVD 系統(tǒng)使用，需自備氣源 （標(biāo)準(zhǔn)帶有寶塔接頭，可自費改制成為雙卡套接頭） 4、工作臺： 尺寸 1200mm×600mm×700mm ，承重 300kg 以上 5、通風(fēng)裝置：需要 |
主要特點 | 1、雙層不銹鋼殼體，并采用 1800℃級高純度氧化鋁纖維絕熱。 2、爐管配有絕熱管堵，減少管內(nèi)向外熱輻射。 3、爐管頂部配裝帶有不銹鋼針閥的密封法蘭，底部配有閘板閥、真空計、 KF25 真空接口。 4、頂部法蘭配有電磁鐵， 可懸掛質(zhì)量約 500g 的樣品，當(dāng)按下溫控單元上的電磁吸盤按鈕時， 樣品就會墜入淬冷水箱內(nèi)。 |
5、采用下置淬冷水箱，便于立即淬火。 6 、采用與爐體分離式的獨立溫控單元，PID 控制器，可設(shè)置 30 段升降溫程序，并內(nèi)置超溫報 |
警保護(hù)裝置， 以及 RS485 通信端口。 7 、已通過 CE 認(rèn)證，所用電器元件（>24V）已通過 UL 、MET 、CSA 認(rèn)證。 | |||
技術(shù)參數(shù) | 1 、電源： 單相 AC 220V 50Hz/60Hz 4KW 2、爐管： 99.8%高純度氧化鋁管， 內(nèi)徑 ?74mm ，外徑 ?80mm ，長 850mm 3、加熱元件： 4 根 1800℃級 U 型硅鉬棒 4、加熱區(qū)域： 200mm 5、恒溫區(qū)域： 65mm，精度± 5℃ 6 、工作溫度： 1700℃（<1h）， 連續(xù)工作 800℃-1650℃ 7、升降溫速率： 1200℃以上時為 5℃/min ，1200℃以下時為 10℃/min 8、控溫精度：± 1℃ 9、真空壓力： 機械泵 50mtorr ，渦輪分子泵 10-5torr | ||
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸： 1080mm×650mm×1500mm；重量： 190kg | ||
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 氧化鋁管 | 1 根 |
2 | 氧化鋁管堵 | 4 個 | |
3 | 不銹鋼法蘭 | 1 套 | |
4 | 熱電偶 | 1 個 | |
可選配件 | 1 、PC 控制軟件 2、不銹鋼卡套接頭 | ||
3、分子泵 | |||
注意事項 | 1、在釋放樣品前， 必須先向爐管內(nèi)充入 5psi 氬氣，再打開閘板閥。 2、硅鉬棒是在高溫氧化性氣氛下使用的。在高溫氧化氣氛中，其表面生成一層光亮致密的 SiO2 玻璃膜，能夠保護(hù)硅鉬棒內(nèi)層不再氧化。因此，不得在 400℃-700℃之間使用，否則將會低 溫氧化致使毀壞。 3、氣氛氣體輸入端必須裝配減壓閥。在連續(xù)通氣時，輸出壓設(shè)置在 3psi 以下。若壓力水平超 | ||
過 3psi 將會對爐膛造成不可逆的損害。 | |
4、如若爐內(nèi)是正壓條件，且未開啟放氣閥時， 切勿進(jìn)行加熱。在加熱過程中要實時觀測真空 計， 一旦爐內(nèi)壓力接近 3psi，請立即打開放氣閥，避免不可預(yù)見的損壞。 5、氣體的流量應(yīng)限于<200SCCM（200ml/min）。 | |
6、氧化鋁管的真空極限定義為： 在管內(nèi)溫度達(dá)到 1500℃時為止，皆視為安全真空壓力范圍。 |