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恒溫金屬浴 HTL系列
恒溫金屬浴：控溫精度高，制樣平行性好，以代替傳統的水浴裝置,可廣泛應用于各種分析儀器樣品的培養、煮沸、去活化、濕消化、樣品濃縮和酶分析保存和反應、DNA擴增和電泳的預變性、血清凝固等.行業遍及醫藥、化工、食品安全、質檢、環境等
常用于分子生物學實驗，如酶切、蛋白質變性、融化瓊脂糖、核酸擴增檢測預反應等，以及其它實驗的樣本保存、血清快速析出、凝固等，無須擔心水意外進到反應管中而影響到實驗，又可避免了傳統水浴加熱污染的問題。此外控溫更精，可控溫范圍也更大。是傳統水浴裝置的良好替代品
恒溫金屬浴技術參數
型號 | HTL系列 |
加熱塊容量 | 恒溫金屬浴可選模塊/可定制 |
溫度控制 | 智能PID控制系統 |
控溫范圍 | 室溫~300°C |
控溫精度 | ±0.1~0.5℃ |
溫度均勻性 | ±0.5℃ |
顯示精度 | 0.1℃ |
定時范圍 | 1～9999分鐘（小時）或連續運行 |
升溫時間 | ≤30 分鐘（30℃至160℃） |
電壓/頻率 | 220VAC±10%或110VAC±10% 50/60Hz |
尺寸 | 定制 |
凈重 | 定制 |
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