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  • 光電傳感器的波長(zhǎng)

    光電傳感器,通常包含很多光學(xué)元件,光束進(jìn)入傳感器后經(jīng)多次會(huì)聚,使探測(cè)器表面實(shí)際入射的能量密度,可以高達(dá)照射到傳感器表面能量密度的100萬(wàn)倍。這和角膜在視網(wǎng)膜上產(chǎn)生的能量密度增益屬同一量級(jí)。光電傳感器這樣設(shè)計(jì)的目的是為了提高靈敏度,以具備探測(cè)極微弱光的能力;不幸的是,這一特性使其成為極易受wu器傷害的目標(biāo)。由于光電傳感器對(duì)紅外輻射,或可見(jiàn)光,或?qū)Χ叨继貏e靈敏,因而就更加容易成為攻擊的目標(biāo)。此外,大多數(shù)傳感器在有限的波長(zhǎng)范圍內(nèi)工作,不同的傳感器有不同的工作波長(zhǎng),一般來(lái)說(shuō),傳感器工作波長(zhǎng)越長(zhǎng),波長(zhǎng)范
  • 高壓開(kāi)關(guān)柜的維護(hù)

    高壓開(kāi)關(guān)柜是一種組合式電器,它可以集斷路器、負(fù)荷開(kāi)關(guān)、接觸器、隔離開(kāi)關(guān)、熔斷器、互感器、避雷器、電容器、母線以及相應(yīng)的測(cè)量裝置、信號(hào)裝置、連鎖裝置和通信系統(tǒng)等電氣設(shè)備于一個(gè)長(zhǎng)方柜的金屬外殼內(nèi)。高壓開(kāi)關(guān)柜主要劣化因素由于各種原因,運(yùn)行中的高壓開(kāi)關(guān)柜會(huì)隨著時(shí)間的推移發(fā)生劣化,并且時(shí)時(shí)影響著電網(wǎng)的安全。主要劣化因素有:(1)熱劣化。由于設(shè)備運(yùn)行中的溫度升高導(dǎo)致絕緣性能下降。(2)電劣化。絕緣材料的電場(chǎng)集中處會(huì)導(dǎo)致絕緣性能下降。(3)機(jī)械劣化。機(jī)械應(yīng)力導(dǎo)致的零件損壞、變形、龜裂和磨損等。(4)環(huán)境劣化。
  • 壓電變壓器工作原理

    在高頻開(kāi)關(guān)電源中,應(yīng)用壓電(Piezo-e1ectric)變壓器(簡(jiǎn)稱PET)可以使開(kāi)關(guān)電源實(shí)現(xiàn)輕、小、薄和高功率密度。例如,一臺(tái)DC/DC開(kāi)關(guān)電源中的PET,其DC/DC轉(zhuǎn)換器輸人為有源鉗位ZVS逆變電路,產(chǎn)生梯形波交流電,經(jīng)過(guò)PET輸出給整流濾波電路。這里應(yīng)指明的是,PET不屬于磁元件的范圍。壓電變壓器是利用壓電陶瓷材料te有的電壓一振動(dòng)轉(zhuǎn)換和振動(dòng)一電壓轉(zhuǎn)換的性質(zhì)傳送電能的,其等效電路如同一個(gè)串并聯(lián)諧振電路。它是功率轉(zhuǎn)換領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)之一,研究的內(nèi)容包括:壓電材料的損耗評(píng)估、PET設(shè)計(jì)計(jì)算方
  • 同步整流技術(shù)

    對(duì)于低電壓大電流輸出的開(kāi)關(guān)電源,進(jìn)一步提高其效率的措施是:在應(yīng)用軟開(kāi)關(guān)技術(shù)的基礎(chǔ)上,以功率MOS管反接作為整流用開(kāi)關(guān)二極管,稱為同步整流(SynchronousRectifier,SR),用皿代替肖特基二極管(SBD)可以降低整流管壓降,從而提高開(kāi)關(guān)電源的效率。有報(bào)道稱,應(yīng)用軟開(kāi)關(guān)和同步整流技術(shù)的小功率DC/DC轉(zhuǎn)換器開(kāi)關(guān)電源,48/12V模塊的效率可以達(dá)到96%、48%/5V模塊的效率可以達(dá)到92%~93%。日本在一臺(tái)100W的軟開(kāi)關(guān)(ZVS)開(kāi)關(guān)電源上試驗(yàn)的結(jié)果是,用SBD的開(kāi)關(guān)電源效率為8
  • 高頻電力電子技術(shù)

    1980年以前,開(kāi)關(guān)電源中PWMDC/DC轉(zhuǎn)換器的開(kāi)關(guān)頻率為20~50kHz,從1980年起,提高開(kāi)關(guān)頻率成為減少開(kāi)關(guān)電源尺寸的有效手段,同時(shí)也改善了開(kāi)關(guān)電源的動(dòng)態(tài)性能?,F(xiàn)在⒛0~500kHz已成為輸出100W以下開(kāi)關(guān)電源的標(biāo)準(zhǔn)開(kāi)關(guān)頻率。特殊制造的小功率開(kāi)關(guān)電源,其開(kāi)關(guān)頻率已經(jīng)達(dá)到了幾兆赫。如表給出了20世紀(jì)70年代以后的30年,通信和計(jì)算機(jī)用開(kāi)關(guān)電源DC/DC轉(zhuǎn)換器高功率密度的發(fā)展進(jìn)程??梢?jiàn),高頻化、高功率密度和高效率是開(kāi)關(guān)電源技術(shù)發(fā)展進(jìn)步的重要標(biāo)志。高效率和軟開(kāi)關(guān)技術(shù)PWM開(kāi)關(guān)電源按硬開(kāi)關(guān)模
  • 電磁感應(yīng)加熱圈的安裝及調(diào)試

    現(xiàn)階段市場(chǎng)上使用的塑料加工機(jī)械的加熱方式是的電熱圈發(fā)熱,再傳導(dǎo)到料筒上,存在熱傳導(dǎo)損失,并導(dǎo)致環(huán)境溫度上升。只有緊靠在料筒表面內(nèi)圈的熱量傳導(dǎo)到料筒上,而外圈的熱量大部分散失到空氣中,造成熱量的損失。而電磁加熱技術(shù)是使金屬料筒自身發(fā)熱,而且料筒外部又包裹著隔熱保溫材料,大大減少了熱傳導(dǎo)損失和熱量對(duì)空氣的散失,提高了熱效率,避免了環(huán)境溫度的上升,因此節(jié)電效果十分顯著,可達(dá)30%~75%,因此電磁加熱圈本身并不發(fā)熱,而且是采用陶瓷材料和高溫電纜制造,所以不存在原電熱圈的電阻絲在高溫狀態(tài)下氧化而縮短使用
  • 干法刻蝕與濕法刻蝕

    在半導(dǎo)體制造中有兩種基本的刻蝕工藝:干法刻蝕和濕法腐蝕。干法刻蝕,是利用氣態(tài)中產(chǎn)生的等離子體,通過(guò)經(jīng)光刻而開(kāi)出的掩蔽層窗口,與暴露于等離子體中的硅片行物理和化學(xué)反應(yīng),刻蝕掉硅片上暴露的表面材料的一種工藝技術(shù)法[1]。該工藝技術(shù)的突出優(yōu)點(diǎn)在于,可以獲得極其精確的特征圖形。超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,要求微細(xì)化加工工藝能夠嚴(yán)格的控制加工尺寸,要求在硅片上完成極其精確的圖形轉(zhuǎn)移。任何偏離工藝要求的圖形或尺寸,都可能直接影響產(chǎn)品性能或品質(zhì),給生產(chǎn)帶來(lái)無(wú)法彌補(bǔ)的損害。由于干法刻蝕技術(shù)在圖形軼移上的突出表現(xiàn),己
  • 關(guān)于刻蝕

    刻蝕,是指用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過(guò)程??涛g的基本目的,是在涂膠(或有掩膜)的硅片上正確的復(fù)制出掩膜圖形??涛g,通常是在光刻工藝之后進(jìn)行。我們通常通過(guò)刻蝕,在光刻工藝之后,將想要的圖形留在硅片上。從這一角度而言,刻蝕可以被稱之為最終的和最主要的圖形轉(zhuǎn)移工藝步驟。在通常的刻蝕過(guò)程中,有圖形的光刻膠層〔或掩膜層)將不受到腐蝕源顯著的侵蝕或刻蝕,可作為掩蔽膜,保護(hù)硅片上的部分特殊區(qū)域,而未被光刻膠保護(hù)的區(qū)域,則被選擇性的刻蝕掉。
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