一，高頻超聲清洗

    對于像硅片表面小至零點幾微米的超微污染粒子，常規的超聲波清洗器無能為力，即使增加功率密度也無濟于事。近來發展了一種兆赫茲級的高頻超聲清洗技術，由于頻率高，空化效應已不起作用，因此清洗的關鍵不是氣泡，是高頻壓力波的擦洗作用，其對污物的去除率接近。高頻清洗近來發展較快，主要用于超大規模集成電路芯片的污物清洗，以及硅晶片、陶瓷。光掩膜等特種污物的清洗。

二，聚焦式清洗

   對于想紡織行業的噴絲板、過濾器之類微孔物件的清洗，常規的超聲清洗效果十分不理想，聲強達不到要求，而采用機械掃描聚焦式超聲清洗，噴絲板微孔中的污物脫離則十分明顯。聚焦式清洗要求達到高的聲強，目前選用的頻率以低頻為主，常用20KHZ和15KHZ兩種頻率，個別的頻率也有28KHZ的，其電功率在連續波情況下一般為500~700w，間隙脈沖工作狀態下，功率可高一些。

三，多頻清洗

    即在一只清洗槽中，按裝有兩種或三種以上不同頻率的換能器，由多只發生器分別推動各自頻率的換能器。我們知道，清洗器工作頻率高時，在液體中空化輕度底而空化密度大，而工作頻率底時則相反。低頻超聲波的強度高，對物體表面清洗有利，高頻超聲波空化密度高，沖擊波能穿達凹槽、細縫、深孔等細微結構。同時缸中有多種頻率的超聲波，也克服了單頻清洗駐波場造成的清洗不均勻問題。

四，掃頻和跳頻清洗

    掃頻和跳頻清洗都是為了改善槽中的聲場結構，前者解決了槽中的不均勻駐波場，是清洗均勻。而跳頻和多頻一樣兼顧到高低頻清洗，不同的是跳頻用的是一個換能器和一個發生器，其換能器本身有兩個諧振頻率，在諧振點帶寬內作連續的頻率變化，然后跳到另一帶寬內進行掃頻清洗，是高低頻交替進行清洗。