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型號(hào)HC-XAFS-T

高溫高壓原位池是一款為研究電極材料在熱催化實(shí)驗(yàn)中的結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)。工作電極（WE）放置在透視窗口處，從而使X射線能夠穿透工作電極；

●此裝置主體為高強(qiáng)度鋼結(jié)構(gòu)，可以耐800oC高溫和1~3MPa的高壓（配置小窗口可以實(shí)現(xiàn)更高壓力）；

●實(shí)現(xiàn)1℃精確控溫；

●此原位池可用于透射模式原位XAFS測(cè)試；

●靈活控制階梯式升溫，并可通入各種反應(yīng)氣氛，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)升溫條件下物相變化；

●光窗直徑：13mm; 光學(xué)窗口選用Be窗；樣品片為粉末狀圓片；

●配循環(huán)冷卻裝置，循環(huán)水溫控制在25oC。