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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • IVG系列-全/半自動單/雙軸減薄機

    半自動單軸減薄機是一款操作簡單、功能豐富、性價比高的高精度研削設備，采用手動裝片方式，配置自動厚度測量和補償系統，可自動研削至目標值。工作臺可根據客戶需求進行定...
    型號： 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:04:05 對比

  • 半自動雙軸減薄機

    半自動雙軸減薄機是一款安裝兩個砂輪軸的高精度研削設備，采用手動裝片方式，配置自動厚度測量和補償系統，產品粗磨后移動至精磨位置，自動研削至目標值。工作臺可根據客戶...
    型號： IVG-2035/... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:53:51 對比

  • 12英寸單片快速熱退火系統

    Sitara TA230A 12英寸單片快速熱退火系統，適用于 260-1200℃快速熱處理工藝。
    型號： Sitara TA... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:48:12 對比

  • 碳化硅快速熱退火系統

    Pallas A220 碳化硅快速熱退火系統，加熱分區設計，具備良好的溫度均勻性。
    型號： Pallas A2... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:36:30 對比

  • IVG-2040/3040 --全自動單軸減薄機

    全自動單軸減薄機是一款高精度、高效率的研削設備，專為半導體制造、硅片加工、光學材料處理及薄膜材料制備等領域設計。
    型號： 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:34:32 對比

  • CMP

    GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工藝而開發，也為先進晶圓制造商和耗材供應商設計的。GNP POLI-500廣泛用于耗材供應商，襯...
    型號： GNP POLI系... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:32:48 對比

  • 感應式碳化硅長晶爐

    APS系列 感應式碳化硅長晶爐，適用于 6 英寸、8 英寸，導電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。
    型號： APS系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:30:49 對比

  • 電阻式碳化硅長晶爐

    AGF系列 電阻式碳化硅長晶爐，適用于 6、8 英寸，導電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。
    型號： AGF系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:27:53 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12")晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:16:24 對比

  • 雙面晶圓研磨機

    雙面研磨機是一款操作簡單，兼容性強的高效率研磨加工設備。主要用于晶片的雙面機械研磨，通過搭配不同材質的研磨盤和不同粒徑及材質的研磨液，可以實現不同材料，不同尺寸...
    型號： TDL-600/1... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 10:13:26 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 9:48:10 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:19:20 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
    型號： GNP CEANE... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:56:54 對比

  • CMP

    GnP POLI-610專為藍寶石等復合晶圓的CMP工藝開發而設計。特別是該系統對于晶圓工藝開發具有較低的擁有成本，材料評估和生產前運行。
    型號： GNP POLI-... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:51:37 對比

  • 等離子清洗設備

    PC-1100是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從小型電子元件到大型基板等多種產...
    型號： PC-1100 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:16:58 對比

  • 紫外線臭氧清洗設備

    UV-300HC紫外線臭氧清洗設備是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機，用于生產。這個行業先的系統有2個裝載盒，可以達到200-300nm/min的高灰化率。該...
    型號： UV-300HC 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:01:44 對比

  • Batch式高真空蒸發設備

    Batch式高真空蒸發設備ei系列是可對應在基板上成金屬膜或氧化物膜的設備。可通過操作面板實現抽真空、成膜等作業內容的集中自動化操作，適用于研究開發及少量生產。
    型號： ei系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:42:25 對比

  • 活性化退火設備

    PFS系列是SiC工藝等高溫處理工藝中，配合使用的退火設備?？勺畲髮?150mm。
    型號： PFS系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:34:17 對比

  • 真空計

    皮拉尼真空計，可以測量從大氣壓到5×10-2Pa的廣泛的壓力范圍該真空計從傳統的控制器（傳感器單元）中除去操作·顯示部，最大限度凝縮精簡功能...
    型號： SW系列 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:24:10 對比

  • 真空泵

    VS系列是旋片式（單級）的油旋轉真空泵?？纱钆淞_茨泵獲得更大的排氣量。內置油霧過濾器和回油裝置，排氣性能長期穩定。此外，設計上還考慮到了油和濾芯更換等維保的便宜...
    型號： VS系列 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 15:10:10 對比
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