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離子束沉積設備
適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積數(shù)據(jù)存儲制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束沉積（IBD）系統(tǒng)大幅提高 80Gb/...
型號： NEXUS IBD 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 9:27:40 對比

薄膜沉積離子束沉積
原子層沉積儀器ALD
用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層，是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。各種類型鋰離子和固態(tài)電池的陰極和陽極的鈍化，用于柔性太陽...
型號： Genesis A... 所在地：臺北市參考價：面議更新時間：2024/9/5 21:41:09 對比

原子層沉積 ALD 全自動薄膜沉積半導體設備
離子束刻蝕機
EIS-200ERP是由ELIONIX研發(fā)的離子束刻蝕機，緊湊和高性能，使用 ECR 離子束可以進行納米蝕刻和沉積，制品特微。
型號： EIS-200ER... 所在地：日本參考價：面議更新時間：2024/9/5 21:26:34 對比

半導體前道刻蝕
離子束刻蝕機
EIS-1500是由ELIONIX研發(fā)的108mm的大直徑光束，通過充分利用光束面內(nèi)分布監(jiān)控功能，可以實現(xiàn)各向異性干法蝕刻的離子束刻蝕機。
型號： EIS-1500 所在地：日本參考價：面議更新時間：2024/9/5 21:22:03 對比

半導體前道刻蝕
MBE分子束外延系統(tǒng)
RIBERMBE分子束外延系統(tǒng)Compact 21 已成為有史以來最成功的商用 3 英寸 MBE 系統(tǒng)。憑借核心 Compact 21 DNA 在所有配置（II...
型號： Compact 2... 所在地：法國參考價：面議更新時間：2024/9/5 21:09:17 對比

分子束外延薄膜沉積緊湊型 MBE
分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE
分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE49全自動生產(chǎn)機器為材料質(zhì)量、產(chǎn)量、產(chǎn)量以及與操作和維護相關的成本設定了行業(yè)標準。超過55個這樣的系統(tǒng)已經(jīng)在全球范圍內(nèi)交付，他們?yōu)榭?..
型號： MBE 49 所在地：法國參考價：面議更新時間：2024/9/5 20:59:44 對比

MBE 分子束外延 RIBER
RIBER分子束外延4 英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)
RIBER分子束外延4 英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)正受到越來越多與工業(yè)合作伙伴合作開展應用項目的關鍵研究機構(gòu)的關注。這種興趣的增加部分歸因于 4 英寸（或 3 x 2 英...
型號： MBE 412 所在地：法國參考價：面議更新時間：2024/9/5 20:58:27 對比

MBE 分子束外延分子束外延4英寸分子束外延四英寸4 英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)
Riber分子束外延系統(tǒng)
Riber分子束外延系統(tǒng)的 multi 4“ / 6" MBE 6000 是全球每個成功的大批量商家或內(nèi)部 epi 操作的核心。它是高通量和可重復性的MBE基準...
型號： MBE 6000 所在地：法國參考價：面議更新時間：2024/9/5 20:52:44 對比

RIBER RIBER分子束外延 MBE 6000 – Multi
自動薄膜沉積簇工具
Kurt J. Lesker Company自動薄膜沉積簇工具 OCTOS集群工具是經(jīng)過驗證的研發(fā)和中試生產(chǎn)系統(tǒng)，用于在多個工藝室之間進行真空傳輸。®
型號： OCTOS&tra... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:52:50 對比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER 自動薄膜沉積簇工具
新型離子槍
通過采用結(jié)合空心陽極離子槍和磁控管離子槍的新型離子槍，可實現(xiàn)了超精細結(jié)構(gòu)的薄膜。
型號： ESC-101 所在地：日本參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:43:44 對比

半導體前道薄膜
臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)
HORIC L200 系列臥式 LPCVD氣相沉積系統(tǒng)，半導體客戶端機臺裝機量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機臺.可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案....
型號： HORIC L20... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:43:28 對比

HORIC L200 系列臥式 LPCVD 系統(tǒng)氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
晶圓貼片機
SB6/8 Gen2 晶圓貼片機晶圓鍵合工藝的萬能設備SUSS MicroTec 公司的 SB6/8e 提供一種適合各種鍵合工藝的半自動平臺。SB6/8e 可以...
型號： SB6/8 Gen... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:40:49 對比

晶圓貼片機 SB6/8 Gen2 晶圓貼片機
薄膜沉積鍍膜系統(tǒng)
薄膜沉積鍍膜系統(tǒng)Automotive Lamp Reflector是為了在汽車用HEAD LAMP部分提高AL的附著性,用Plasma,AL Sputter,C...
型號： Automotiv... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:36:21 對比

CVD Automotive Lamp Reflector 韓國真空/IOKOVA
科瓦普物理氣相沉積平臺
科瓦普物理氣相沉積平臺COVAP PVD 為許多過程應用提供了緊湊、經(jīng)濟且仍然強大的解決方案。專為需要安全可靠的工具的實驗室而設計，該工具可在緊湊的占地面積內(nèi)生...
型號： COVAP 所在地：加拿大參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:34:37 對比

COVAP PVD AE 物理氣相沉積平臺
鈣鈦礦專用涂膜機
鈣鈦礦專用涂膜機，配備4.3寸全彩觸屏，操作便捷。采用硬質(zhì)陽極氧化鋁面板，帶真空吸附，確保涂膜穩(wěn)定。精準控制移動速率，提高涂膜重復性。可選配多種涂膜工具，適應不...
型號： PF200-H 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:34:07 對比

涂膠
部件鍍膜設備
部件鍍膜設備KaLine 8V是在真空狀態(tài)中向產(chǎn)品外部涂層非導體的設備,在真空內(nèi)產(chǎn)品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構(gòu)成的.
型號： KaLine 8V 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:21:20 對比

鍍膜韓國真空/IOKOVA 部件鍍膜設備韓國真空/IOKOVA
IoN系列等離子清洗去膠系統(tǒng)
IoN系列等離子清洗去系統(tǒng)具有多種射頻電源選項，可滿足客戶的特定工藝和產(chǎn)量要求。我們提供不同腔體和電極配置，最大腔體可達 1200 升。
型號： IoN 10Q 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:21:13 對比

半導體前道去膠
實驗型勻膠機
實驗型勻膠機技術參數(shù)：1.適用基片尺寸：小于1cm小碎片及到8寸標準晶圓，非標準基片可定制載物盤2.自動滴膠功能3.支持去邊、背洗、勻膠、顯影、清洗、控溫等功...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:20:10 對比

勻膠機實驗型勻膠機勻膠顯影自動滴膠
AE物理氣相沉積平臺
AE物理氣相沉積平臺Nexdep PVD在經(jīng)濟性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強大的工藝增強功能，而不會占用實驗室的所有空間或預算。您的研究目標、生產(chǎn)需求...
型號： NEXDEP 所在地：加拿大參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:18:04 對比

NEXDEP PVD AE 物理氣相沉積平臺
12英寸金屬刻蝕機
NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。
型號： NMC 612G 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:18:00 對比

12英寸金屬刻蝕機 NMC 612G 北方華創(chuàng)

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