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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 涂膠與顯影機(jī)

    ACS300 Gen2 涂布機(jī)和顯影劑用于晶圓級封裝的生產(chǎn)旋涂/開發(fā)集群ACS300 Gen2 是一個模塊化集群系統(tǒng)，旨在滿足制造商對 200 和 300 毫米...
    型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:41:23 對比

  • 氣相分解金屬沾污收集（VPD）設(shè)備

    詳細(xì)介紹Seehund® A型氣相分解金屬沾污收集設(shè)備（VPD）是專為集成電路制造、大晶圓生產(chǎn)及再生、先導(dǎo)工藝研發(fā)等行業(yè)提供金屬沾污控制方案的產(chǎn)品。由...
    型號： Seehund&#... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:37:25 對比

  • 去膠機(jī)

    用于封裝領(lǐng)域中的光阻去除工藝，掩膜版清洗，OLED 領(lǐng)域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝及化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝
    型號： KS-S150-6... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:23:35 對比

  • 去膠機(jī)

    適用于半導(dǎo)體及LED芯片制造領(lǐng)域中的光刻膠去除、金屬剝離等工藝制程。
    型號： KS-S150-4... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:19:56 對比

  • 單片清洗機(jī)

    用于晶圓級封裝及OLED中的清洗工藝，配合清洗化學(xué)藥液、高壓水清洗、常壓水清洗、兆聲波清洗、二流體水清洗、毛刷和噴灑清洗劑等手段，可有效去除晶圓表面顆粒、有機(jī)物...
    型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:17:42 對比

  • 全自動SCRUBBER清洗機(jī)

    清洗機(jī)可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細(xì)微顆粒污染物去除，實(shí)現(xiàn)高效去除。通過大量仿真與工藝試驗(yàn)相結(jié)合，...
    型號： KS-CF300/... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:13:38 對比

  • 12寸 集束型涂膠顯影機(jī)

    KS-C300涂膠顯影機(jī)可用于封裝、 MEMS、OLED等領(lǐng)域的涂覆顯影制程，每小時可加工180片晶片，同時產(chǎn)品可兼容不同材質(zhì)的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物...
    型號： KS-C300 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:11:10 對比

  • 12寸噴霧式涂膠機(jī)

    KS-S300全自動噴霧式涂膠機(jī)通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒，適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠，可以有效覆蓋溝槽的側(cè)壁和邊緣，避免溝槽堆積...
    型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:09:27 對比

  • 涂膠顯影半自動機(jī)臺

    KS-M300半自動機(jī)臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產(chǎn)的工藝試驗(yàn)和生產(chǎn)線。占地面積小，操作時...
    型號： KS-M300 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:07:40 對比

  • 星型全自動涂膠顯影機(jī)

    KS-S150星型全自動涂膠顯影機(jī)用于LED-PSS工藝的涂膠顯影制程及化合物半導(dǎo)體的涂膠顯影等制程。可兼容藍(lán)寶石、砷化鎵和碳化硅等材質(zhì)的晶圓，產(chǎn)品涉及多個應(yīng)用...
    型號： KS-S150 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:06:06 對比

  • 涂膠顯影機(jī)

    KS-FT200/300系列堆疊式高產(chǎn)能前道涂膠顯影機(jī)，為我司自主研發(fā)的突破晶圓前道28nm工藝節(jié)點(diǎn)及以上工藝制程，適用于ArF、KrF、I-Line、PI、B...
    型號： KS-FT200/... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:00:21 對比

  • 高精密微3D光刻機(jī)

    織雀™PL-3D Premium 是托托科技自主研發(fā)的高精密微3D光刻設(shè)備， 最高光學(xué)分辨率可達(dá)1μm，支持最大50 mm×50 mm&#...
    型號： 織雀™... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:09:44 對比

  • 無掩膜光刻機(jī)

    BIO系列是生命科學(xué)版的無掩膜紫外光刻機(jī)，無掩膜光刻機(jī)具有更高的深寬比，能滿足生命科學(xué)領(lǐng)域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微...
    型號： BIO L+ 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:02:00 對比

  • 無掩膜光刻機(jī)

    Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機(jī)，其無掩膜光刻機(jī)配備了先進(jìn)的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機(jī)不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:57:54 對比

  • 無掩膜光刻機(jī)

    ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機(jī)，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，靈活性使其成為科學(xué)研究。設(shè)備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定，上手簡單。...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:53:38 對比

  • 激光掩模光刻機(jī)

    ULTRA激光掩模光刻機(jī) 是專門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT） 和 ME...
    型號： ULTRA 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:49:59 對比

  • 無掩模直接成像儀光刻機(jī)

    PG 300 DI 是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具，具有所有先進(jìn)的 VPG 系統(tǒng)組件，能夠以最高的...
    型號： VPG 300 D... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:43:56 對比

  • 有掩膜光刻機(jī)

    VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計(jì)。它們支持所有標(biāo)準(zhǔn)的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 4...
    型號： VPG 200 /... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:39:38 對比

  • 激光光刻機(jī)

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化，設(shè)計(jì)用于集成電路、MEMS、...
    型號： DWL 2000 ... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:35:30 對比

  • 雙光子聚合直寫光刻機(jī)

    MPO 100雙光子聚合直寫光刻機(jī)是一種雙光子聚合 （TPP） 多用戶工具，用于微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻和 3D 顯微打印，適用于微光學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)械學(xué)和生物醫(yī)學(xué)...
    型號： MPO 100 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:30:58 對比
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