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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
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  • TCU 制冷加熱循環系統200℃

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。TCU 制冷加熱循環系統200℃

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  • TCU密閉制冷加熱循環裝置-25℃~200℃*

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  • LNEYA低溫冷凍裝置-115℃用于各種顯示屏脫膠

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  • 密閉TCU制冷加熱循環系統 200℃

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  • 【無錫冠亞】TCU制冷加熱循環裝置-25℃~200℃

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  • 平板冷凍設備-115℃用于各種平板顯示屏脫膠使用

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  • TCU制冷加熱循環裝置-25℃~200℃性能安全可靠

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