冠亞制冷制冷加熱循環器采用動態制冷加熱控溫技術，可以配套各種反應器以及儀器提供相應的冷源和熱源，那么，制冷加熱循環器有哪些應用呢？
1、反應釜配套
SUNDI系列配合各種材質以及小中大型的反應釜（溫度在－80至200℃具有高穩定性）
TCU控溫單元可以用于工藝恒溫控制器和多臺反應釜配合（滿足動態溫度控制，寬的溫度變化范圍）可以定制隔離防爆款式的制冷加熱循環器
2、微通道反應器配套
WTD系列制冷加熱循環器針對微通道反應器持液量少換熱能力強、循環系統壓降大特點專門設計開發。優化溫度采樣及響應速度,專門設計控制算法,能快速響應到控溫穩定。增強循環泵能力設計,滿足反應器高壓降需求。持續高溫降溫技術,滿足在高溫放熱反應時,需要冷熱恒溫控制時穩定運行。
3、半導體制程中應用
LTS系列制冷加熱循環器廣泛運用在半導體制程中對反應腔室控溫、熱沉板控溫及需要傳熱介質 不可燃流體控溫場所，適用于半導體芯片制造、芯片器件、航空電子設 備中的制冷加熱溫度控制。
4、旋轉蒸發配套
制冷加熱循環器可以同時供應2臺到3小的旋蒸同時使用。將風冷卻進行分路調節，并節約實驗室用水。
冠亞制冷的制冷加熱循環器還配套應用在發酵罐的溫度控制等，選型的時候一般考慮的是配套設備的工況要求，使用溫度范圍等。
